2008 Fiscal Year Final Research Report
Development of Three-Dimensional Forming Method for Base Materials of Electronics Devices
| Project/Area Number |
19760513
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Material processing/treatments
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| Research Institution | Kumamoto University |
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Principal Investigator |
OTSU Masaaki Kumamoto University, 大学院・自然科学研究科, 准教授 (20304032)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Keywords | レーザ加工 / 基板材料 / マイクロデバイス / 三次元成形 |
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| Research Abstract |
通常は強い力を加えると割れてしまうため三次元成形が難しい電子デバイス用の基板材料であるシリコンや次世代の電子デバイスの基板材料として期待されている金属ガラス箔をレーザ照射によって曲げ加工する方法を開発し,そのための装置の作成と成形条件の探査を行った.出力50WのYAGレーザを使い,厚さ0.05mmのシリコン箔と0.017mmの金属ガラス箔の成形条件を求めた.
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