2008 Fiscal Year Final Research Report
Titania films on titanium implant prepared by ECR plasma CVD oxidation.
| Project/Area Number |
19791422
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
補綴理工系歯学
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
HATORI Kouki Tohoku University, 大学院・歯学研究科, 助教 (40372320)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Keywords | ECRプラズマCVD法 / チタンインプラント / 多孔性チタニア膜 / 表面改質 / インターフェイス / 骨誘導インプラント |
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| Research Abstract |
これまでに, 申請者は電子サイクロトロンプラズマ金属錯体析出法(ECRプラズマCVD法)を利用して純チタン表面上に多孔性チタニア膜を析出させることにより表面改質に従事してきた. 多孔性チタニア膜の成膜条件を変化させることにより, 多孔性チタニア膜の膜性状が変化することが確認された. また, 各種膜性状に応じて石灰可能・ぬれ性が異なることが確認された.
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