2008 Fiscal Year Final Research Report
Formation of functional HA film in room temperature and atmospheric pressure and the clinical application
| Project/Area Number |
19791426
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
補綴理工系歯学
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
NOJI Miyoko Tohoku University, 大学院・歯学研究科, 大学院非常勤講師 (70431583)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Keywords | パウダージェットデポジション / ハイドロキシアパタイト / インターフェイス / エナメル質 / 接着強度 |
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| Research Abstract |
これまでに, 申請者はパウダージェットデポジション(PJD)法を応用して歯質上に歯の主成分であるハイドロキシアパタイト(HA)膜の生成し, 歯質-生体材料間に全く新しいインターフェイスを創成することに成功している. HA膜は緊密で幅広い面積であり, エナメル質と同程度の硬さであり, 歯科診療で一般的に使用されているコンポジットレジンと同程度の歯質への接着強度を有していることがわかった. また, ヒト抜去歯のそのままの表面への成膜も確認がされている.
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