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2021 Fiscal Year Annual Research Report

分極制御型超ワイドバンドギャップ半導体デバイスの開拓

Research Project

Project/Area Number 19H02170
Research InstitutionKyoto Institute of Technology

Principal Investigator

西中 浩之  京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授 (70754399)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 上田 修  明治大学, 研究・知財戦略機構(生田), 研究推進員(客員研究員) (50418076)
池永 訓昭  金沢工業大学, 工学部, 准教授 (30512371)
蓮池 紀幸  京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 助教 (40452370)
Project Period (FY) 2019-04-01 – 2022-03-31
Keywordsε相酸化ガリウム / 強誘電体 / ミストCVD / 混晶 / 結晶成長 / 高電子移動度トランジスタ / 単結晶
Outline of Annual Research Achievements

本研究は、大きな分極を有し、さらにスイッチ可能な強誘電体であるε型酸化ガリウムによる高電子移動度トランジスタを作成して、GaNを超えるパワーデバイスを実現し、極限の省エネ社会への貢献を目的としている。その目的を達成するために、1.大きな分極による高濃度2DEGキャリア密度のHEMT、2.強誘電体によるスイッチ可能なノーマリーオフ型HEMT、3.ε-Ga2O3の基礎物性の解明の検討を進めている。
本研究では、そのHEMTの実現に向けた高品質結晶成長技術の確立に向けて、新しい基板の合成とその基板を用いたε-Ga2O3の結晶成長を行い、従来の課題であった回転ドメインのないε-Ga2O3と原子レベルで平坦な薄膜の合成に成功した。この結果はHEMTの実現に向け大きな進捗である。このε-Ga2O3の平面TEM観察を行い、単一ドメインであることを初めて示した。また、その基板と格子整合を目指して、In2O3との混晶の検討を行い、基板と格子整合するε-(InxGa1-x)2O3の形成にも成功した。
基礎物性の解明では、半導体応用において、転位の種類や発生原因を知ることは重要である。従来は回転ドメインの影響により転位の種類の同定が不可能であったが、本研究で提案する新しい基板の利用により発生した転位の同定を可能とした。また、ε-Ga2O3PFM観察により、得られたε-Ga2O3が強誘電体であり、分極反転可能であることが分かった。
本研究では、新しい材料であるε-Ga2O3の開拓を進めており、多くの新しい知見を得ることができた。本研究はε-Ga2O3の高移動度トランジスタの実現に大きく貢献していると考えている。

Research Progress Status

令和3年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

令和3年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (25 results)

All 2022 2021 Other

All Journal Article (8 results) (of which Peer Reviewed: 8 results,  Open Access: 1 results) Presentation (14 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 3 results) Book (1 results) Remarks (2 results)

  • [Journal Article] Alloying In2O3 and Ga2O3 on AlN templates for deep-ultraviolet transparent conductive films by mist chemical vapor deposition2022

    • Author(s)
      Ogura Yuri、Arata Yuta、Nishinaka Hiroyuki、Yoshimoto Masahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 61 Pages: SC1037~SC1037

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac4688

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Observing the microstructure of a (001) κ-Ga2O3 thin film grown on a (-201) β-Ga2O3 substrate using automated crystal orientation mapping transmission electron microscopy2022

    • Author(s)
      Kajita Yuki、Nishinaka Hiroyuki、Yoshimoto Masahiro
    • Journal Title

      CrystEngComm

      Volume: 24 Pages: 3239~3245

    • DOI

      10.1039/D2CE00042C

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Epitaxial growth of metastable c-plane rhombohedral indium tin oxide using mist chemical vapor deposition2022

    • Author(s)
      Shimazoe Kazuki、Nishinaka Hiroyuki、Watanabe Keisuke、Yoshimoto Masahiro
    • Journal Title

      Materials Science in Semiconductor Processing

      Volume: 147 Pages: 106689~106689

    • DOI

      10.1016/j.mssp.2022.106689

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Epitaxial growth of γ-(AlxGa1-x)2O3 alloy thin films on spinel substrates via mist chemical vapor deposition2021

    • Author(s)
      Horie Ryuto、Nishinaka Hiroyuki、Tahara Daisuke、Yoshimoto Masahiro
    • Journal Title

      Journal of Alloys and Compounds

      Volume: 851 Pages: 156927~156927

    • DOI

      10.1016/j.jallcom.2020.156927

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Rapid homoepitaxial growth of (010) β-Ga2O3 thin films via mist chemical vapor deposition2021

    • Author(s)
      Nishinaka Hiroyuki、Nagaoka Tatsuji、Kajita Yuki、Yoshimoto Masahiro
    • Journal Title

      Materials Science in Semiconductor Processing

      Volume: 128 Pages: 105732~105732

    • DOI

      10.1016/j.mssp.2021.105732

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Growth of Metastable α-Ga2O3 Epitaxial Thin Film on Flexible Synthetic Mica by Insertion α-Fe2O3 Buffer Layer2021

    • Author(s)
      ARATA Yuta、NISHINAKA Hiroyuki、SHIMAZOE Kazuki、YOSHIMOTO Masahiro
    • Journal Title

      Journal of the Society of Materials Science, Japan

      Volume: 70 Pages: 738~744

    • DOI

      10.2472/jsms.70.738

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Plan-view TEM observation of a single-domain κ-Ga2O3 thin film grown on ε-GaFeO3 substrate using GaCl3 precursor by mist chemical vapor deposition2021

    • Author(s)
      Nishinaka Hiroyuki、Ueda Osamu、Ito Yusuke、Ikenaga Noriaki、Hasuike Noriyuki、Yoshimoto Masahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 61 Pages: 018002~018002

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac3e17

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] 混晶と格子整合性からアプローチするκ相,γ相酸化ガリウムの結晶成長技術2021

    • Author(s)
      西中 浩之
    • Journal Title

      応用物理

      Volume: 90 Pages: 360~364

    • DOI

      10.11470/oubutsu.90.6_360

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] ミストCVD法によるパワー半導体応用に向けたGa2O3の形成技術2022

    • Author(s)
      西中浩之
    • Organizer
      FIoTコンソーシアム令和3年度第3回機能性フレキシブルとインクジェット技術分科会
    • Invited
  • [Presentation] Growth of corundum structured oxides and their alloy for lattice matched applications2021

    • Author(s)
      K. Shimazoe, H. Nishinaka, and M. Yoshimoto
    • Organizer
      The 2021 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Epitaxial Growth of Indium-Gallium-Oxide-Alloy Thin Films on AlN Templates by Mist Chemical Vapor Deposition2021

    • Author(s)
      Y. Ogura, Y. Arata, H. Nishinaka, and M. Yoshimoto
    • Organizer
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials,
  • [Presentation] Bi添加In2O3の光学的特性評価2021

    • Author(s)
      谷口 陽子,島添 和樹,西中 浩之,吉本 昌広
    • Organizer
      第31回日本MRS年次大会
  • [Presentation] ミストCVD法によるスズ添加酸化インジウム及びフッ素添加酸化スズ薄膜のエピタキシャル成長2021

    • Author(s)
      島添 和樹,西中 浩之,石野 貴之,渡邉 啓佑,吉本 昌広
    • Organizer
      第31回日本MRS年次大会
  • [Presentation] ミストCVD法によるα-Al2O3基板上のrh-IMO薄膜のエピタキシャル成長とその評価2021

    • Author(s)
      石野 貴之,島添 和樹,西中 浩之,吉本 昌広
    • Organizer
      第31回日本MRS年次大会
  • [Presentation] ミストCVD法でのκ相およびγ相Ga2O3結晶の成長と評価2021

    • Author(s)
      西中浩之
    • Organizer
      (独)日本学術振興会「結晶加工と評価技術」第145 委員会 第173 回研究会
    • Invited
  • [Presentation] ミストCVD法による省エネパワーデバイスGa2O3の形成技術2021

    • Author(s)
      西中浩之
    • Organizer
      関西広域連合グリーン・イノベーション研究成果企業化フォーラム
    • Invited
  • [Presentation] ミストCVD法による深紫外透明導電膜への応用に向けた(InxGa1-x)2O3混晶薄膜の成長2021

    • Author(s)
      小倉有莉,池之上卓己,新田悠汰,西中浩之,吉本昌広
    • Organizer
      材料学会半導体エレクロトニクス部門委員会第2回研究会
  • [Presentation] ミストCVD法を用いたYSZ(111)面基板上のIMO薄膜のエピタキシャル成長とその評価2021

    • Author(s)
      石野 貴之, 島添 和樹, 西中 浩之, 吉本 昌広
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] ミスト CVD 法によるβ-(AlxGa1-x)2O3混晶薄膜成長2021

    • Author(s)
      金子 真大, 堀江 竜斗, 梶田 優気, 西中 浩之, 吉本 昌広
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] ミストCVD法を用いたrh-ITOエピタキシャル薄膜上へのHfxZr1-xO2薄膜成長2021

    • Author(s)
      島添 和樹, 藤原 悠希, 新田 悠汰, 西中 浩之, 吉本 昌広, 野田 実
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] 深紫外透明導電膜への応用に向けた(InxGa1-x)2O3混晶薄膜の成長とその評価2021

    • Author(s)
      小倉 有莉, 新田 悠汰, 池之上 卓己, 西中 浩之, 吉本 昌広
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] ミストCVD法を用いたβ-(InxGa1-x)2O3薄膜のエピタキシャル成長2021

    • Author(s)
      梶田 優気, 西中 浩之, 吉本 昌広
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Book] 次世代パワー半導体の開発・評価と実用化 第4章第5節 ミストを用いた半導体製造装置2022

    • Author(s)
      岩室 憲幸 監修 西中浩之 分担執筆
    • Total Pages
      414
    • Publisher
      エヌ・ティー・エス
    • ISBN
      978-4-86043-767-1
  • [Remarks] 注目の研究 ミストCVD法による半導体形成技術 ~パワーデバイス応用からナノ構造形成まで~

    • URL

      https://www.kit.ac.jp/chuumokukenkyu/chuumokukenkyu202004/

  • [Remarks] 【京都工芸繊維大学】(研究紹介)電気電子工学系 西中浩之准教授

    • URL

      https://www.youtube.com/watch?v=6C3l-p9xyT8

URL: 

Published: 2022-12-28  

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