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2019 Fiscal Year Annual Research Report

シリコンへの新スピン機能の付加と革新的スピンデバイスの創製

Research Project

Project/Area Number 19H02197
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

安藤 裕一郎  京都大学, 工学研究科, 特定准教授 (50618361)

Project Period (FY) 2019-04-01 – 2022-03-31
Keywordsシリコン / スピントロニクス / スピン流
Outline of Annual Research Achievements

本年度はスピンの流れ(スピン流)を用いたスピン流論理演算素子の室温動作実証に成功した.スピンとは電子が有する磁石の性質であり,上向き,下向きの2種類が存在する.この上向き,下向きの量を制御した電子の流れはスピン流と呼ばれる.このスピン流はエネルギー消費の極めて少ない情報輸送手段として期待されている.このスピン流を用いたデバイスは複数の提案があるが,これまでに実証された素子は従来の電子デバイスにスピン機能を付加したデバイスに限られていた.この場合には従来素子の一部をスピン素子に入れ替えることによりデバイス自体の性能向上を図る.つまり,システム自体の動作原理は従来と大差ないのが一般的であった.その結果,システム全体としての性能向上も限定的であった.今回の研究ではスピン流の特性を生かし,スピンだけで論理演算を行う素子を実現した.具体的にはスピン流源となる強磁性電極を複数配置し,シリコン中にそれぞれの電極から信号入力を行い,シリコン中で計算を行う.その計算結果を電流,電圧,スピン,光などで出力することができる.本デバイスはスピン流論理演算素子と呼ばれるが,これまでに半導体での実現例はない.今回の研究では既存のLSI技術と整合性の高いシリコンを用いてXOR回路の動作実証に成功した.出力も電圧・電流の両方の形式で出力することに成功した.このXOR論理回路はさらに強磁性体を2つ追加することにより,NANDとOR回路を切り替える素子へと発展できる.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

スピン流論理演算素子については着実に進展している.確実な技術が構築されている為,更に発展的なスピン流演算素子も実現しつつある.スピン流演算素子については順調に進んでいると言える.

Strategy for Future Research Activity

来年度以降,電圧駆動や強いスピン軌道相互作用の導入などを検討していく.一部は本年度に前倒しで実行しており,良い結果が得られている.

  • Research Products

    (6 results)

All 2020 2019

All Journal Article (6 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Peer Reviewed: 6 results,  Open Access: 1 results)

  • [Journal Article] Investigation of gating effect in Si spin MOSFET2020

    • Author(s)
      Lee Soobeom、Rortais Fabien、Ohshima Ryo、Ando Yuichiro、Goto Minori、Miwa Shinji、Suzuki Yoshishige、Koike Hayato、Shiraishi Masashi
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 116 Pages: 022403~022403

    • DOI

      10.1063/1.5131823

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Gate-Tunable Spin xor Operation in a Silicon-Based Device at Room Temperature2020

    • Author(s)
      Ishihara Ryoma、Ando Yuichiro、Lee Soobeom、Ohshima Ryo、Goto Minori、Miwa Shinji、Suzuki Yoshishige、Koike Hayato、Shiraishi Masashi
    • Journal Title

      Physical Review Applied

      Volume: 13 Pages: 1-9

    • DOI

      10.1103/PhysRevApplied.13.044010

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Spin transport in n-type 3C?SiC observed in a lateral spin-pumping device2020

    • Author(s)
      Shigematsu Ei、Ohshima Ryo、Ando Yuichiro、Shinjo Teruya、Kimoto Tsunenobu、Shiraishi Masashi
    • Journal Title

      Solid State Communications

      Volume: 305 Pages: 113754~113754

    • DOI

      10.1016/j.ssc.2019.113754

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Ferromagnetic resonance imbalance at high microwave power: Effect on the Gilbert damping parameter2019

    • Author(s)
      Dushenko Sergey、Ando Yuichiro、Shinjo Teruya、Shiraishi Masashi
    • Journal Title

      Journal of Applied Physics

      Volume: 126 Pages: 203904~203904

    • DOI

      10.1063/1.5127882

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Monolayer MoS2 field effect transistor with low Schottky barrier height with ferromagnetic metal contacts2019

    • Author(s)
      Gupta Sachin、Rortais F.、Ohshima R.、Ando Y.、Endo T.、Miyata Y.、Shiraishi M.
    • Journal Title

      Scientific Reports

      Volume: 9 Pages: 1-7

    • DOI

      10.1038/s41598-019-53367-z

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Stability of spin XOR gate operation in silicon based lateral spin device with large variations in spin transport parameters2019

    • Author(s)
      Ishihara Ryoma、Lee Soobeom、Ando Yuichiro、Ohshima Ryo、Goto Minori、Miwa Shinji、Suzuki Yoshishige、Koike Hayato、Shiraishi Masashi
    • Journal Title

      AIP Advances

      Volume: 9 Pages: 125326~125326

    • DOI

      10.1063/1.5129980

    • Peer Reviewed / Open Access

URL: 

Published: 2021-01-27  

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