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2020 Fiscal Year Research-status Report

電子ビームリソグラフィにおける無帯電露光条件の体系化

Research Project

Project/Area Number 19K04519
Research InstitutionOsaka Institute of Technology

Principal Investigator

小寺 正敏  大阪工業大学, 工学部, 教授 (40170279)

Project Period (FY) 2019-04-01 – 2022-03-31
Keywords電子ビームリソグラフィ / レジスト帯電現象の解析 / フォギング電子解析 / 静電気力顕微鏡 / 電子ビーム誘起導電現象
Outline of Annual Research Achievements

科学研究費採択テーマである「電子ビームリソグラフィにおける無帯電露光条件の体系化」において、研究計画調書に示したように現有の走査電子顕微鏡内に独自に開発した静電気力顕微鏡を導入し、電子ビーム露光を受けた直後のレジスト表面電位を測定している。
令和2年度はレジスト表面の帯電電位が露光量によって2度ゼロクロスすることを見出した。また、レジストの種類によってゼロクロス露光量は異なるが、同じレジストであればゼロクロス露光量は同じで、膜厚によって正負の到達電位が異なることを見出した。
そもそも負電荷をもつ電子照射による絶縁体であるレジストが正に帯電する現象について妥当な説明ができるモデルは今まで存在しなかったが、我々は令和2年度に実施した様々な条件に対する実験の結果に基づいてこれらの現象を合理的に説明できるモデルを提唱し論文発表や国内外の学会にて発表し支持を受けた。
具体的なモデルは以下の通り。低露光量では表面からの二次電子放出により正帯電するが、露光量の増加と共にレジスト内で電子蓄積が進み、ある露光量でゼロクロスする。それ以降の露光量では負帯電は進むはずであるがレジスト薄膜底面が接地電位であるため大きな負電位にはならず、一方で露光量の増加とともにレジスト膜内での電子ビーム誘起導電が増強されることで膜内の電子が徐々に流出して負電荷が減少するため正に帯電するものと分かった。現在実施している実験ではこのモデルが妥当であることを示している。令和3年度にはさらにこの検討を深める予定である。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

科学研究費採択テーマである「電子ビームリソグラフィにおける無帯電露光条件の体系化」において、電子ビーム露光量によるレジスト表面電位が2度ゼロクロスする現象について体系化することができた。同じレジスト材料の場合には同じ露光量でゼロクロスし、膜厚が異なる場合にはほぼポアソン方程式に従った到達電位となった。また、異なるレジスト材料ではゼロクロス露光量は異なることが分かった。このように様々なパラメータに関して現状ではその実験的変化を合理的に説明できている。

Strategy for Future Research Activity

科学研究費採択テーマである「電子ビームリソグラフィにおける無帯電露光条件の体系化」に向けて、加速電圧の変化によるゼロクロス露光量の挙動や露光後の待機時間によって到達電位がどのような変化をするかについて調査し、様々な方面から当該問題を検討する。

Causes of Carryover

(1)当該研究成果発表の機会である国際会議が全世界的にコロナ禍により実施されず、旅費が使えなかったため次年度使用分が生じたことによる。
(2)令和3年度は当該実験遂行に必要な消耗品と、研究進展により新たに必要となった微小電流計の備品購入とその装置利用に必要な消耗品の購入を予定している。

  • Research Products

    (9 results)

All 2021 2020

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (6 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Invited: 1 results) Book (1 results)

  • [Journal Article] Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography2021

    • Author(s)
      Kubo Kento、Kojima Kentaro、Kono Yoshinobu、Kotera Masatoshi
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 60 Pages: SCCB02~SCCB02

    • DOI

      10.35848/1347-4065/abf46a

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] 電子ビーム照射を受けた導体上レジスト薄膜の帯電現象の解析2020

    • Author(s)
      小寺正敏
    • Journal Title

      荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第第242回研究会資料

      Volume: 2A-1478 Pages: 15-22

  • [Presentation] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索2021

    • Author(s)
      小島 健太郎、久保 建統、河野 由伸、小寺 正敏
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 電子ビームリソグラフィにおける無帯電条件について2021

    • Author(s)
      小寺正敏
    • Organizer
      2020 年度日本顕微鏡学会SEM の物理学分科会討論会
  • [Presentation] Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography2020

    • Author(s)
      Kento Kubo, Kentaro Kojima Yoshinobu Kono and Masatoshi Kotera
    • Organizer
      33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Potential distribution on the resist surface after electron beam irradiation with respect to resist thickness and elapsed time2020

    • Author(s)
      Kentaro Kojima, Kento Kubo, Yoshinobu Kono and Masatoshi Kotera
    • Organizer
      33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 電子ビームリソグラフィにおけるレジストの無帯電露光条件2020

    • Author(s)
      小寺正敏、水野秀哉、久保建統、小島健太郎
    • Organizer
      2020年度実用表面分析講演会
    • Invited
  • [Presentation] 電子ビーム照射を受けた導体上レジスト薄膜の帯電現象の解析2020

    • Author(s)
      小寺 正敏
    • Organizer
      荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第第242回研究会
  • [Book] 電子・イオンビーム ハンドブック第4版2021

    • Author(s)
      松井 真二、高岡 義寛、臼井 博明、谷口 淳、八坂 行人、高橋 由夫、桑原 真、糟谷 圭吾、豊田 紀章、千葉敦也、百田 佐多生、岡山重夫、近藤行人、森下茂幸、村田 英一、安田雅昭、小寺 正敏 、古澤 孝弘、園山 百代、揚村 寿英 他
    • Total Pages
      593
    • Publisher
      日刊工業新聞社
    • ISBN
      978-4-600-00624-2

URL: 

Published: 2021-12-27  

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