2021 Fiscal Year Research-status Report
Siのアルカリ異方性エッチングを利用した超精密赤外デバイスの作製と評価
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19K05315
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| Research Institution | Setsunan University |
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Principal Investigator |
山田 逸成 摂南大学, 理工学部, 准教授 (40586210)
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| Project Period (FY) |
2019-04-01 – 2023-03-31
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| Keywords | ワイヤグリッド / 異方性エッチング / 干渉露光 / Si |
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| Outline of Annual Research Achievements |
微細（サブ波長）周期構造で構成する赤外デバイスの低コスト化のために、二光束干渉露光法と赤外光を透過するSiのアルカリ異方性エッチング、金属の斜め蒸着法を併用したプロセス技術により、Siと金属の微細周期構造で構成する赤外デバイスを製作することを目的としている。
Siのアルカリ異方性エッチングを行う上でSi酸化膜のパターニングを行うことが重要となる。このSi酸化膜においては、Si基板を加熱温度800度、時間60分の条件で処理することでSi酸化膜の生成を確認できており、Si酸化膜表面に二光束干渉露光法とアルカリエッチングすることで、格子周期1μmのSi格子を5mm径以上の面積で得ることができ赤外波長よりも、狭周期構造を得ることができている。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
2021年度の実施計画では、酸化膜をパターニングしたSi基板を、アルカリエッチングし、異方性エッチングを行い、直径5mm以上の大きさで１以上のアスペクト比（格子深さと格子幅との比）、かつSi格子周期2μm以下の周期構造を形成することを目指すことであった。それに対して、周期1μm，格子幅300nm程度，格子高さ330nmの構造が5mm径以上の面積で形成することができているため、おおむね順調に進展していると考えている．
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| Strategy for Future Research Activity |
Si格子構造を形成することはできているので、Siの2次元構造を形成し、金属の成膜によって波長フィルタの作製に向けた製作条件の探索を行う。
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| Causes of Carryover |
成膜装置の点検や、成膜材料の購入などに使用する予定である。
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