Verification of the principle of highly sensitive photopolymers using molecular proliferation reactions

2021 Fiscal Year Final Research Report

• Project/Area Number: 19K05621
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 35020:Polymer materials-related
• Research Institution: Tokyo University of Science
• Principal Investigator: Arimitsu Koji 東京理科大学, 理工学部先端化学科, 教授 (30293054)
• Project Period (FY): 2019-04-01 – 2022-03-31
• Keywords: 光反応性材料 / UV硬化 / 高感度 / 増殖反応 / 酸増殖剤 / 塩基臓側剤 / レジスト / 増幅

Outline of Final Research Achievements

Various photoreactive materials can be created by combining a compound that generates an acid or a base by photoirradiation and a reactive resin. These are indispensable materials for the electronics industry, and further high sensitivity is required. In order to improve the sensitivity of these materials, acid amplifiers or base amplifiers that generate acids and base molecules in a nonlinear manner were designed and synthesized. In fact, it was confirmed that when the developed acid amplifier and base amplifier were added to the cationic UV curing material and the anion UV curing material, respectively, the curing efficiency was dramatically improved.

Free Research Field

有機材料化学、光反応性高分子材料

Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements

酸や塩基触媒を利用した光反応性材料はエレクトロニクス産業において重要な役割を担っており、生産効率を向上させるためにさらなる高感度化が求められている。連鎖的に酸や塩基を発生する酸増殖剤や塩基増殖剤を添加することで、材料の感度を大幅に向上させることができた。これにより、電子デバイスの製造速度が向上し、低コスト化に貢献することが期待できる。
また、連鎖的に酸あるいは塩基分子を生成する有機化学反応はこれまに知られておらず、学術的新規性が高い。さらにこれらの反応を光反応性材料に組み込んで、最初の光反応を増幅する試みは、学術的にも実学的にも極めて独創的であり、光反応性材料の研究に一石を投じる。