Fabrication of inorganic resists for pulsed EUV light source

2022 Fiscal Year Final Research Report

• Project/Area Number: 19K05663
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 36010:Inorganic compounds and inorganic materials chemistry-related
• Research Institution: National Institutes for Quantum Science and Technology
• Principal Investigator: Yoshimura Kimio 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主幹研究員 (40549672)
• Project Period (FY): 2019-04-01 – 2023-03-31
• Keywords: パルスEUV / リソグラフィ / レジスト材料 / セラミック前駆体高分子 / 有機－無機転換

Outline of Final Research Achievements

The ability of the polymer blends of polycarbosilane and allylhydride polycarbosylane, a ceramic precursor polymer, was investigated for the development of resist materials and resist processes specialized for the pulsed EUV light sources.

Free Research Field

機能性材料

Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements

本研究は、現状のEUV露光プロセスの問題点である低解像度と低エッチング耐性の両方を一気に解決するEUV用無機レジストを市場に提案できるため、世界市場規模が年間40兆円の半導体分野において、関連企業の興味を引く技術になると考えられ、大きな社会的インパクトを有する。また、これまでの光露光プロセスでは、光化学、光物理を含む基礎科学に立脚した研究開発がなされてきたが、電離放射線としての性質が強いEUVの、レジスト材料に及ぼす放射線物理・化学作用がほとんど解明されていない現状に対し、無機レジストの提唱に加え、放射線化学に基づくEUVレジスト材料の研究、開発を行う点において独自性と創造性に富んでいる。