2021 Fiscal Year Research-status Report
マルチモデルサンプリングに基づくSoCの欠陥レベル見積り及び削減法
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19K11884
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| Research Institution | Nihon University |
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Principal Investigator |
新井 雅之 日本大学, 生産工学部, 教授 (10336521)
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| Project Period (FY) |
2019-04-01 – 2023-03-31
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| Keywords | クリティカルエリア / ウェハマップ / 欠陥レベル削減 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本年度は主に，(1)少数のレイアウトデータおよび少数の実欠陥デバイスから得られる欠陥位置情報に基づいて，将来発生し得る故障候補位置を推定する手法，および(2)AIを用いたウェハマップ上の欠陥パターンの検出・分類法について検討を進めた．
(1)に関しては，少数の欠陥デバイスしか入手できない場合を想定し，欠陥レイアウトデータのデータ拡張手法について検討し，その評価を行った．敵対的生成ネットワークGANを使用して偽欠陥画像を生成し，選別することにより，畳込みニューラルネットワークCNNによる欠陥分類精度が向上することを確認し，国内研究会において発表した．
(2)に関しては，CapsNetを用いたウェハマップ欠陥パターン分類法の多重欠陥分類精度について評価を行い，CNNを用いた手法と比較して高い分類精度を持つことを示した．本研究の成果の一部を査読付き国際会議にて発表した．
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
3: Progress in research has been slightly delayed.
Reason
コロナ禍の状況において，国内外で開催される研究会，国際会議等への参加が著しく困難となり，技術調査，研究成果発表における研究者との討論等が充分に行えず，研究の遂行の障害となっている．また，AIを使用した分類のために計算機の導入を検討しているところ，世界的な半導体不況に伴い価格，納入時期の面から導入が遅れている．
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| Strategy for Future Research Activity |
研究期間を1年延長し，現在のテーマを引き続き進める予定である．具体的には，AIベースの欠陥位置推定法に関して，(1)GANを用いた実欠陥位置情報拡張手法の検討，(2)CapsNetを用いた欠陥位置推定法の多重欠陥モデルへの適用，(3)スクラッチ等の分類困難欠陥の分類精度向上，の面から推定制度の向上を狙い，得られた欠陥候補の特徴抽出を行ってテストパターン生成法の確立を目指す予定である．
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| Causes of Carryover |
コロナ禍の状況により予定していた物品購入および国内・海外研究発表・調査が行えなかったため次年度使用額が生じた．研究期間を1年間延長し，予定していた物品購入を行う．また，状況を見ながら国内外における発表・調査を行う．
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Research Products
(2 results)
