• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2019 Fiscal Year Research-status Report

他元素添加AlN膜/層構造基板による縦型漏洩SAWの高性能化と高周波フィルタ応用

Research Project

Project/Area Number 19K15024
Research InstitutionUniversity of Yamanashi

Principal Investigator

鈴木 雅視  山梨大学, 大学院総合研究部, 助教 (60763852)

Project Period (FY) 2019-04-01 – 2022-03-31
Keywords弾性表面波 / 周波数フィルタ / 窒化アルミニウム / 層構造基板
Outline of Annual Research Achievements

漏洩弾性表面波(LSAW)および縦型漏洩弾性表面波(LLSAW)は高位相速度と高結合係数を有するため,高周波SAWフィルタ応用に適している。しかし,従来SAWデバイスのIDT/圧電基板構造では,LSAWとLLSAWモードは伝搬減衰が大きく,急峻なフィルタ特性が得られない。そこで,本研究ではLSAW,LLSAWに対して「高SAW位相速度, 高結合係数 ,低SAW伝搬減衰,高い温度安定性 」を両立し,かつスパッタ法で形成可能な「他元素添加AlN層/(高音速層/)基板」からなる多層構造基板の探索とSAWデバイス応用を目的とする。
1. ScAlN膜/水晶基板を伝搬するLLSAW,LSAWを理論解析することで,この組み合わせでの最適構造探索を行った。LSAW,LLSAWともに水晶のカット,SAW伝搬方向(オイラー角)が伝搬特性に大きく影響し,LSAWでは(0 90 72)ScAlN膜/(0 126 0)水晶, LLSAWでは(0 90 90)ScAlN膜/(90 90 30)水晶において,ある程度大きな結合係数(5%以上),小さい伝搬減衰(0.001dB/λ以下)を有することが分かった。
2.AlN膜の圧電性を増幅するScを代替する他元素ドープとしてクロム(Cr)に着目して,スパッタ法による形成,電気機械結合係数評価を行った。2%以下の低Cr濃度では結合係数は増幅し,特にCr濃度1%ではAlN膜の結合係数の約1.2倍を示した。しかし,Cr濃度4%以上では結合係数は徐々に減少し,Cr濃度10%以上では,膜の導電性によりバルク波励振が観測できなかった。Sc添加を比較すると,低濃度ではほぼ同等の圧電性増幅が期待でき,CrAlNは薄膜共振子応用には適している。一方でSAWデバイス用の圧電層としては,高濃度領域で導電性が発現せずにより大きな圧電性増幅が実現できるScAlN膜のほうが有望である。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

理論計算により,LLSAWおよびLSAWデバイスに最適な層構造基板の一つの候補としてScAlN膜/水晶の組み合わせを見出した。
また, 新たな他元素AlN膜としてCrAlN膜の形成,Cr濃度が結晶構造,結合係数に及ぼす影響の評価も達成した(但し他元素添加がSAW伝搬損失に及ぼす影響評価は未達)。
以上の結果から,おおむね順調に進展しているといえる。

Strategy for Future Research Activity

【①LSAW, LLSAW伝搬に最適な層構造基板の探索】ScAlN膜/水晶基板構造に引き続き「基板材料を高い圧電性を持つLINbO3,LiTaO3に変更⇒高結合係数化」,「ScAlN/基板間への中間層(AlN,SiO2)挿入⇒さらなる低伝搬減衰化」について検討を行う。
【②他元素添加がSAW伝搬特性に及ぼす影響】本年度未達であったScAlN(CrAlN)膜での他元素濃度がSAW伝搬損失に及ぼす影響について評価を行い,膜構造評価と合わせて,SAWデバイス応用に適した成膜条件の最適化を図る。
【③中間層の材料定数算定】①での中間層の検討において材料定数が既知のアモルファスAlN,SiO2膜では優れた特性が得られなかった場合に実施する。B添加AlNやSiC膜等を新たにスパッタ法で作成し,直線集束ビーム超音波解析システムを用いて材料定数の算定を行う。
【④SAWデバイス作製・評価】①-③で得られた知見を基に層構造基板の作製およびSAWデバイス用IDT電極の形成を行う。作製したSAWデバイスの周波数特性をネットワークアナライザにより測定し,SAW位相速度,結合係数,伝搬減衰,温度安定性を評価する。IDT/圧電単結晶基板からなる従来SAWデバイスの特性,および理論解析結果と比較することで,作製したSAWデバイスの優位性,問題点を検討する。
これらで得られた研究成果を取り纏め、論文投稿・学科発表を行う。

Causes of Carryover

納品が締め日までに間に合わなかったため、次年度使用額が生じた。
未使用額については、該当物品の購入費として、予定通り使用する。

  • Research Products

    (11 results)

All 2020 2019 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (7 results) (of which Int'l Joint Research: 3 results) Remarks (2 results)

  • [Journal Article] Analysis of leaky surface acoustic wave characteristics propagating on high piezoelectric ScAlN film/high velocity quartz substrate2020

    • Author(s)
      Suzuki Masashi、Kakio Shoji
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 59 Pages: SKKC07~SKKC07

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab867f

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Electromechanical Coupling Coefficient kt2 of Cr doped AlN Films Grown by Sputtering Deposition2019

    • Author(s)
      Suzuki Masashi、Kakio Shoji
    • Journal Title

      Proceedings of 2019 IEEE Ultrasonics Symposium

      Volume: 1 Pages: 716-719

    • DOI

      10.1109/ULTSYM.2019.8926302

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Crドープがc軸配向AlN薄膜の結晶配向性と電気機械結合係数に及ぼす影響2020

    • Author(s)
      高野 佑成、早川 竜盛、鈴木 雅視、垣尾 省司
    • Organizer
      第67回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] RFマグネトロンスパッタ法により形成したc軸配向CrAlN膜の電気機械結合係数評価2020

    • Author(s)
      高野 佑成、早川 竜盛、鈴木 雅視、垣尾 省司
    • Organizer
      圧電材料・デバイスシンポジウム2020
  • [Presentation] Theoretical Analysis of Leaky SAW Propagation Characteristics on ScAlN film/Quartz2019

    • Author(s)
      Masashi Suzuki and Shoji Kakio
    • Organizer
      The 40th Symposium on Ultrasonic Electronics
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Piezoelectric Characteristics of c-Axis Oriented CrAlN Films Grown by RF Magnetron Sputtering2019

    • Author(s)
      Yusei Takano, Ryusei Hayakawa, Masashi Suzuki, and Shoji Kakio
    • Organizer
      The 40th Symposium on Ultrasonic Electronics
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Electromechanical Coupling Coefficient Kt2 of Cr Doped AlN Films Grown by Sputtering Deposition2019

    • Author(s)
      Masashi Suzuki and Shoji Kakio
    • Organizer
      2019 IEEE ultrasonics symposium
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] ScAlN薄膜/回転Yカット水晶基板上LSAWにおける最適構造探索2019

    • Author(s)
      鈴木雅視、垣尾省司
    • Organizer
      第80回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] ScAlN 圧電層/水晶基板上を伝搬する SAW 特性理論解析2019

    • Author(s)
      鈴木雅視、垣尾省司
    • Organizer
      第48回EMシンポジウム
  • [Remarks] 研究室HP

    • URL

      https://uoy-suzuki-laboratory.blogspot.com/

  • [Remarks] 山梨大学研究者総覧

    • URL

      http://nerdb-re.yamanashi.ac.jp/Profiles/338/0033743/profile.html

URL: 

Published: 2021-01-27  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi