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2008 Fiscal Year Annual Research Report

完全バルクGaN結晶育成技術の研究開発

Research Project

Project/Area Number 20360140
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

森 勇介  Osaka University, 大学院・工学研究科, 教授 (90252618)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 北岡 康夫  大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (70444560)
川村 史朗  大阪大学, 大学院・工学研究科, 特任研究員 (80448092)
今出 完  大阪大学, 大学院・工学研究科, 特任研究員 (40457007)
KeywordsGaN / Naフラックス法 / LPE / 対流シミュレーション
Research Abstract

4インチ対応の大型育成装置の開発に向けて、フルーエント(Ansys社製)を用いた数値解析と、実験の両面から溶液撹拌の効果を検証した。小型マッフル炉(坩堝サイズ:φ19mm)系で数値解析を行ったところ、種基板を垂直配置する従来の設置法と比較して、約70度に傾斜させた配置では、種基板面内に均一な流れが誘起されることが予測された。解析結果をもとに、傾斜配置でGaN LPE成長を行ったところ、垂直配置と比較して結晶表面の凹凸が解消され成長速度が約1.3倍に増加した。2インチ径GaN結晶成長が可能な大型炉(坩堝サイズ:φ65mm)においても、炉全体を機械的に揺動させることで種基板表面での溶液の流速が約30倍に増加することが数値解析より示された。機械揺動を導入して2インチGaN結晶を育成したところ表面平坦性が著しく向上した。以上の結果から、対流速度が速いほど溶液中の窒素濃度分布が均一化し、成長速度・平坦性が向上するという重要な知見を得た。以上の理論的・実験的検証をもとに、4インチ径GaN結晶成長が可能な多分割マルチヒーター2軸揺動機構付大型炉を開発した。新型炉では、多分割マルチヒーターによる厳密な熱対流速度制御と2軸揺動機構による強力な撹拌効果が期待できる。
無歪GaN単結晶成長に向けて種結晶を検討した。自然核GaN単結晶(φ2mm、黒色、Naフラックス法製)を種結晶として用いた結果、種結晶の高い結晶性((10-11)X線半値幅:51秒)をほぼ保ったままφ8.3mmへと大型化するものの、不純物に起因する結晶の着色は抑制されなかった。一方、不純物濃度の低い透明LPE厚膜結晶(13x10mm、Naフラックス法作製)を種結晶として用いたところ、透明なLPE-GaN単結晶が得られ、転位密度も種結晶より一桁減少することが明らかとなった。以上の結果より、無歪GaN単結晶成長には、結晶中不純物濃度の低い高品質GaN種結晶を用いることが重要である。

  • Research Products

    (12 results)

All 2009 2008

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results) Presentation (9 results)

  • [Journal Article] Growth of GaN single crystals with extremely low dislocat ion density by two-step dislocation reduction.2009

    • Author(s)
      F. Kawamura, et al.
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth (In press)

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Growth of high-quali ty large GaN crystal by Na fluxLPE method.2009

    • Author(s)
      F. Kawamura et, al.
    • Journal Title

      Proceedings of SPIE Photonics West (In press)

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effect of carbon additive on increases in the growth rate of 2 in GaN single crystals in the Na flux method.2008

    • Author(s)
      F. Kawamura, et al.
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth 310

      Pages: 3946-3949

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Naフラックス法によるLPE-GaN単結晶の低圧育成2009

    • Author(s)
      請川 紘嗣
    • Organizer
      第56回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      筑波大学
    • Year and Date
      2009-03-31
  • [Presentation] Growth of high-quality large GaN crystal by Na flux LPEmethod.2009

    • Author(s)
      F. Kawamura
    • Organizer
      SPIE Photonics West
    • Place of Presentation
      San Jose, California
    • Year and Date
      2009-01-02
  • [Presentation] Naフラックス法を用いたGaN厚膜単結晶育成による高品質化の検討2008

    • Author(s)
      平林 康弘
    • Organizer
      第38回結晶成長国内会議
    • Place of Presentation
      仙台市戦災復興記念館
    • Year and Date
      2008-11-05
  • [Presentation] NaフラックスLPE法による無極性GaN結晶育成2008

    • Author(s)
      勝池 悟史
    • Organizer
      第38回結晶成長国内会議
    • Place of Presentation
      仙台市戦災復興記念館
    • Year and Date
      2008-11-05
  • [Presentation] Recent progress in the growth of GaN single crystals Using the Na flux method.2008

    • Author(s)
      F. Kawamura
    • Organizer
      Asian Core Workshop
    • Place of Presentation
      光州(韓国)
    • Year and Date
      2008-10-23
  • [Presentation] Growth of two-inch GaN single crystals with thethickness of several mm in Na-flux method.2008

    • Author(s)
      S. Katsuike
    • Organizer
      International Workshop on NitrideSemiconductors 2008
    • Place of Presentation
      Montrex, Switzerland
    • Year and Date
      2008-10-08
  • [Presentation] Naフラックス法によるGaN結晶の導電性制御2008

    • Author(s)
      森 勇介
    • Organizer
      第69回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      中部大学
    • Year and Date
      2008-09-02
  • [Presentation] Growth of thick GaN single crystals us ing the Na fluxLPE method.2008

    • Author(s)
      F. Kawamura
    • Organizer
      Second International Sympos ium onGrowth of Ill Nitrides
    • Place of Presentation
      Izu, Japan
    • Year and Date
      2008-07-08
  • [Presentation] Improvement of crystal1ini ty of m-plane substrateby Na flux LPE method.2008

    • Author(s)
      S. Katsuike
    • Organizer
      Second International Symposium onGrowth of Ill Nitrides
    • Place of Presentation
      Izu, Japan
    • Year and Date
      2008-07-08

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Published: 2010-06-11   Modified: 2016-04-21  

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