2008 Fiscal Year Annual Research Report
NHCカルベンを基盤とする機能性配位子の創製とその金属錯体に関する研究
| Project/Area Number |
20550057
|
|---|
| Research Institution | Yokohama National University |
|---|
Principal Investigator |
山口 佳隆 Yokohama National University, 大学院・工学(系)研究科(研究院), 准教授 (80313477)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
浅見 真年 国立大学法人横浜国立大学, 大学院・工学研究院, 教授 (20134439)
|
|---|
| Keywords | NHCカルベン / ビス(イミダゾリウム)塩 / キラル2座配位子 / C_2対称型錯体 / トリエチルボラン付加体 / インデニルーNHC配位子 |
|---|
| Research Abstract |
キシリレン架橋の2座カルベン配位子を用いたC_2対称型錯体を構築するために、キシリレン骨格のメチレン部位に不斉を導入することを計画した。本研究では、キラルなキシリレンジオールとカルボニルジイミダゾールを用いることにより、短段階の工程でキラルなキシリレン架橋ビス(イミダゾリウム)塩を合成することができた。出発物質であるジオールは光学的に純粋な鏡像体を利用することができることから、両鏡像体の2座カルベン配位子の合成に成功した。これらの配位子を用いたC_2対称平面4配位型パラジウム錯体の合成を検討している。
カルベンと他の配位子、特にシクロペンタジエニル類縁体とを組み合わせたハイブリッド型配位子とその金属錯体に関する研究が活発に行われている。本研究では、インデニルとカルベンが炭化水素基で結合した配位子に注目した。本配位子を用いる場合、両配位部位に結合している酸性度の異なる水素(プロトン)を引き抜く必要がある。そこで、当研究グループですでに報告しているBEt_3で保護されたカルベンを用いる方法を検討した。すなわち、本配位子前駆体に、LiBEt_3Hを反応させたところ、イミダゾリウム塩上のプロトンが選択的に引き抜かれ、BEt_3がカルベンに付加した化合物が得られた。次に、得られた化合物を塩基で処理し、金属錯体との反応を行ったところ、インデニル錯体の合成に成功した。その後、カルベン部位が配位したキレート型錯体あるいは架橋型二核錯体の合成に成功した。この結果は、カルベンを基盤としたハイブリッド型配位子を有する金属錯体の合成指針となるものであり、高度に設計された錯体触媒の合成につながるものと期待できる。
|
