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2008 Fiscal Year Annual Research Report

不斉結合活性化反応を指向した着脱可能部位を有する分子性金属触媒の開発

Research Project

Project/Area Number 20550097
Research InstitutionNara Women's University

Principal Investigator

片岡 靖隆  Nara Women's University, 理学部, 教授 (90221879)

Keywordsイリジウム / 金属上の不斉 / 面不斉 / ルイス酸ルイス塩基複合触媒 / アリル化
Research Abstract

高選択的にかつ高効率に有機化合物を合成するには、不斉合成と結合活性化反応を利用するのが効果的である。ところが、その両者を融合した反応系、すなわち、結合活性化を不斉合成に応用するという反応系は、全くといっていいほど未開発である。なぜなら配位子の設計において相反する考え方を同時に満足させる必要があり、そのためには新しい制御方法を開発する必要があるからである。本研究ではこの問題を解決できる新しい配位子の設計を行い、新しい不斉反応の開発を目指す。本年度は、その配位子の設計として、インデン環にルイス塩基部位であるホスフィンオキシドを含む側鎖をつけた化合物(Cp'-PO配位子)を設計合成すること、および、そのイリジウム錯体の合成方法・反応性ついて検討した。その結果、中心金属(イリジウム)上に不斉点を有するCp'-PO配位子を補助配位子とするイリジウム錯体の合成方法を確立することに成功した。また、その反応性を検討したところ、金属部位がルイス酸として機能すること、および、アルデヒドのアリル化反応(細見一桜井型アリル化反応)のルイス酸ルイス塩基複合触媒として機能することがわかった。さらに、大変興味深いことに側鎖の炭素の長さの違いにより大きく反応性がことなることも明らかとなった。この知見は、今後不斉反応に展開する際の配位子設計の重要な指標となる。今後イリジウム上の電子密度を高める(インデン環に電子供与性の置換基を導入)ことができれば、炭素-水素結合活性化に利用できる触媒として機能することが期待される。

  • Research Products

    (3 results)

All 2009 2008

All Presentation (3 results)

  • [Presentation] ホスフィンオキシド基が架橋されたインデニル配位子を有するイリジウム錯体の合成とアリル化反応に対する触媒能の検討2009

    • Author(s)
      片岡靖隆
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      船橋日本大学
    • Year and Date
      2009-03-29
  • [Presentation] ホスフィンオキシド基が架橋されたインデニル配位子を有するイリジウム錯体の合成とその触媒能2008

    • Author(s)
      片岡靖隆
    • Organizer
      錯体化学討論会
    • Place of Presentation
      金沢大学
    • Year and Date
      2008-09-22
  • [Presentation] Cp' -P配位子を有するシリルヒドリド錯体の中心金属上に発生する不斉点の立体化学2008

    • Author(s)
      片岡靖隆
    • Organizer
      有機金属化学討論会
    • Place of Presentation
      大阪府立大学
    • Year and Date
      2008-09-20

URL: 

Published: 2010-06-11   Modified: 2016-04-21  

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