2008 Fiscal Year Annual Research Report
応力下における高分子のin-situ NMR法による運動状態解析法の開発
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20550106
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| Research Institution | Gunma University |
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Principal Investigator |
山延 健 Gunma University, 大学院・工学研究科, 教授 (40183983)
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| Keywords | NMR / 高分子 / in-situ / 運動状態解析 |
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| Research Abstract |
応力下における高分子のin-situ NMR法による運動状態解析法の開発を行うために下記のような結果を得た。
1.赤外線照射による局所温度制御プローブの製作
従来のNMR装置において、温度変化、特に高温での測定にはコンプレッサーからの空気をヒータで加熱して温度制御することにより、行われてきた。しかし、この方法では試料部分の温度変化のためにかなり広い部分まで温風の影響が現れた。また、温度変化の速度を制御することはできなかった。温度制御に赤外線を用いると局所的に温度制御することが可能であり、空気を吹き付けるわけではないので試料の劣化も防ぐことができる。平成20年度は赤外線導入装置を用いたプローブを設計し、製作した。このプローブは温度上昇の速度が速く、プローブ回りの温度の上昇が小さいことが分かった。また、上昇後の温度安定性も温風に比べて非常に安定していることが分かった。
2.赤外線照射による局所温度制御プローブによるポリブロピレンの延伸
1で作製したプローブを用いてポリプロピレンの延伸を行った。延伸による応力は温風によるものに比べて、小さな値を示した。これは温風による場合には試料中の温度分布があり、局所的には溶融していない部分があるためと考えられる。この点から、赤外線による温度制御が優れていることが示された。
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