2009 Fiscal Year Annual Research Report
超硬質Ni/ナノ-ミクロダイヤモンド複合皮膜の開発
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20550172
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
佐治 哲夫 Tokyo Institute of Technology, 大学院・理工学研究科, 教授 (60142262)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
荻原 仁志 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (60452009)
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| Keywords | 複合材料・物性 / ナノ材料 / ダイヤモンド / タングステンカーバイド / 複合めっき |
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| Research Abstract |
高い硬度を有するNi合金(Ni-B)を金属マトリックスとし、高い硬度を有するダイヤモンド、WCの粒子との超硬複合めっき皮膜を作成した。本年度の研究では、以下の研究成果が得られた。(1)Ni-B/ダイヤモンド複合めっきでは、Ni-Bめっき浴にダイヤモンド粒子と分散剤としてSDSを加え、定電流電解めっきによりめっきを行ないNi-B/ダイヤモンド複合めっき皮膜を作製した。得られた皮膜の硬度は約2,000Hvに達し、前年度に作製した二段階法により作製した皮膜と同等の硬度を有する皮膜を容易に作製できることがのが明らかとなった。(2)Ni/WC複合めっきでは、めっき浴にWC粒子と還元により分散能が失われるAZTABを加え、パルス電解めっきによりめっきを行ないNi/WCめっき皮膜を作製した。得られた皮膜はWC含有率が高く、平滑性が大きく改善し、硬度は約700Hvであった。これらの被膜がこのように高い硬度を示したのは、(1)粒子間の隙間を高い硬度をのNi合金が充てんした、(2)粒子含有率が最密充填に近い50～60vol.%に達したことに起因すると考えられる。
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