2010 Fiscal Year Annual Research Report
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20560668
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| Research Institution | University of Fukui |
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Principal Investigator |
堀 照夫 福井大学, 大学院・工学研究科, 教授 (90092832)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
久田 研次 福井大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (60283165)
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| Keywords | 超臨界二酸化炭素 / エポキシ樹脂 / 液晶高分子 / 有機金属錯体 / 無電解めっき / 密着強度 |
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| Research Abstract |
密着強度の高い繊維・高分子材料への金属めっきを確立するために超臨界二酸化炭素を用い、材料に有機金属錯体を注入し、これを材料内部で還元分解させて金属を析出させる。金属は材料内部でナノ微粒子としてクラスターを形成し、表面にも一部露出する。これを核として利用することで容易に無電解メッキできる。
今年度は特にめっきが困難であると言われてきたアラミド、ポリプロピレン、エポキシおよび液晶高分子LCPについて、また錯体として昨年までに見出してきたパラジウム錯体についていくつかの錯体を混合使用する場合の効果も検討した。また、めっき密着性を向上させるため、プラズマや電子線による前処理も検討した。
ポリプロピレン繊維は分子内にC,H以外の元素がなく金属錯体に対する親和性がないため酸素プラズマで前処理することで分子内にカルボニル基などが生成し(XPS分析により確認)、また表面が一部エッチングされ、めっきの密着性能が大きく向上した。エポキシやLCP樹脂の場合プラズマや電子線照射の効果は顕著ではなかったが、シャイニー面よりマット面の方が高密着性が得られたことから、表面を荒らす方法が有効であること、またヘキサフロロアセチルアセテネートPdとアセチルアセテネートPdを混合使用することで、密着強度が向上することを見出した。
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