2010 Fiscal Year Annual Research Report
湿布面へのUV照射によるOHラジカルの生成とエチレンの改質および滅菌装置
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20580274
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| Research Institution | Utsunomiya University |
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Principal Investigator |
長澤 武 宇都宮大学, 工学研究科, 教授 (10118440)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
鈴木 光政 宇都宮大学, 工学研究科, 教授 (40091706)
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| Keywords | 紫外線 / 高分子材 / エチレン / 改質 / ラジカル |
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| Research Abstract |
本研究は,OHラジカルで,全ての作物が対称となる発生エチレンの除去および空気殺菌のできる少エネルギー型装置(過去に開発した電界を用いたエチレン除去装置は酢酸エステルを必要としたために保存対称物に制限があった)の開発を目的とした研究である。
21年度までは,OHラジカルを生成する方法として,これまでは湿布面にオゾンを生成しないUV(使用UV:254nm)を照射し,OHラジカルを生成し,気体の改質及び殺菌を行ってきた。
22年度は湿布綿の代わりに高分子材を用いて,同じUVを照射して,OHラジカルの生成を行った。変えた理由は,1.湿布綿は乾燥して燃焼する可能性がある.また,水分が必要である等から実用的でない。2.高分子材は化学構造にO,H成分が含まれている.等である。
OH生成法は,1.この高分子材にUVを照射し,O,Hをそれぞれ高分子材から解離する。2.解離したO,HはOHを生成する方法である。あるいは,OH成分を直接解離する方法である。このOHラジカルを気体に作用させて改質,および酸化殺菌する。
研究成果:1.エチレンガスの減少の割合はUV管と高分子材の距離に依存する。2.容器(54リットル)に300ppmのエチレン純ガスを注入した場合,70分で145ppm減少した。以上から,全ての作物(果物,穀物)に適応できる簡単・軽量で省エネルギー型の気体改質除去および殺菌が可能な装置が開発できた。よって,実用的な大型長期保存庫や移動用保存庫へ搭載することができるので,広範囲で作物の保存用として使用できる。
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Research Products
(7 results)
