2010 Fiscal Year Self-evaluation Report
Development of highly efficient fabrication process of thin film devices on plastic materials using atmospheric-pressure plasma
| Project/Area Number |
20676003
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (S)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Production engineering/Processing studies
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
KAKIUCHI Hiroaki Osaka University, 工学研究科, 准教授 (10233660)
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| Project Period (FY) |
2008 – 2012
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| Keywords | 大気圧プラズマ / 低温・高速成膜 / 電子・電気材料 / 薄膜トランジスタ |
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| Research Abstract |
近年,大気圧プラズマは,減圧プラズマに代わるプラズマ源として注目され,その成膜プロセスへの応用に関する活発な研究が行われている。本研究は,大気圧プラズマを用いた成膜で一般に問題となる基板のダスト汚染を克服することによってSi およびその化合物の低温高速高品質成膜プロセスを確立し,プラスチックフィルム上へのTFT 等の高性能薄膜デバイスの実証を目指す。
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