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2008 Fiscal Year Annual Research Report

マイクロマシン技術を用いた超軽量・高角度分解能宇宙X線望遠鏡の開発

Research Project

Project/Area Number 20684006
Research InstitutionTokyo Metropolitan University

Principal Investigator

江副 祐一郎  Tokyo Metropolitan University, 理工学研究科, 助教 (90462663)

KeywordsX線天文学 / X線望遠鏡 / マイクロマシン技術
Research Abstract

本計画では、これまで世界最軽量であった日本のすざく衛星のX線望遠鏡を、重量で2桁軽量化しつつ、角度分解能は1桁向上した、「1000cm^2の有効面積と10秒角の分解能を備えたkgクラスの究極の軽量源望遠鏡」を目指す。鍵となるのが日本が得意とする様々なマイクロマシン技術である。我々は本計画以前に、シリコン結晶異方性エッチングを用いて製作した鏡面で軽量化の基本概念を実証してきた。本計画では、(1)シリコンドライエッチングによる軽量X線反射用の微細構造の製作、(2)X線LIGAを用いた軽量X線反射用の金属微細構造の製作、(3)磁気流体を用いたエッチング面の研磨、(4)シリコン水素アニールを用いたシリコンエッチング面の平滑化、(5)塑性変形もしくは弾性変形による高精度な変形の開発を行う。この方法で開発する望遠鏡は我々のオリジナルである。
今年度、我々は本方式を実証するため2つの技術目標を掲げた。1つ目がX線反射の実証であり、光学系ではなく、マイクロ鏡アレイが並んだ鏡チップと呼ばれる1cm角程度の大きさのチップを用いた。2つ目が結像の実証であり、シリコンドライエッチングで4インチ基板に穴を光学系形状に開け、まずは側壁を平滑化せず塑性変形して、可視光で結像を評価した。我々はシリコンおよびニッケル鏡チップの両方でX線反射の実証に成功し、(3)または(4)の平滑化によって側壁が3-5nm rms程度となることを確認した。また可視光結像にも成功し、回折で決まる分解能とほぼ同レベルの焦点を得た。これらは開発の大きなステップとなるものである。年度前半は特許申請(2件)の関係上、発表は差し控えたが、年度後半では、2つの国内学会での発表、1つの国際学会での招待講演を行った。また来年度、3つの国際学会での発表、1つの集録、3本の投稿論文を予定している。

  • Research Products

    (5 results)

All 2009 2008

All Presentation (3 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results)

  • [Presentation] 将来衛星に向けた超軽量・高分解能新MEMSX線光学系の基礎開発(1)2009

    • Author(s)
      高木うた子, ほか
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      筑波大学
    • Year and Date
      2009-03-30
  • [Presentation] 超軽量・高角度分解能新MEMSX線光学系の開発(1)2009

    • Author(s)
      三石郁之, ほか
    • Organizer
      日本天文学会
    • Place of Presentation
      大阪府立大学
    • Year and Date
      2009-03-27
  • [Presentation] Development of ultra-light and high-resolution X-ray pore optics in Japan2008

    • Author(s)
      Y. Ezoe
    • Organizer
      International Workshop on Astronomical X-ray Optics
    • Place of Presentation
      Prague, Czech(招待講演)
    • Year and Date
      2008-12-03
  • [Patent(Industrial Property Rights)] マイクロマシン技術を用いた高解像度X線集光・結像系2008

    • Inventor(s)
      満田和久、江副祐一郎、中嶋一雄、山口ひとみ
    • Industrial Property Rights Holder
      満田和久、江副祐一郎、中嶋一雄、山口ひとみ
    • Industrial Property Number
      特許出願2008-256136
    • Filing Date
      20080000
  • [Patent(Industrial Property Rights)] シリコンウェハを用いた高解像度X線集光・結像系2008

    • Inventor(s)
      満田和久、石田学、江副祐一郎、中嶋一雄
    • Industrial Property Rights Holder
      満田和久、石田学、江副祐一郎、中嶋一雄
    • Industrial Property Number
      特許出願2008-186840
    • Filing Date
      20080000

URL: 

Published: 2010-06-11   Modified: 2016-04-21  

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