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2010 Fiscal Year Self-evaluation Report

Development of the smart deposition process of amorphous carbon films due to the control of plasma process

Research Project

  • PDF
Project/Area Number 20684027
Research Category

Grant-in-Aid for Young Scientists (A)

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Plasma science
Research InstitutionNagasaki University

Principal Investigator

SHINOHARA Masanori  Nagasaki University, 生産科学研究科, 助教 (80346931)

Project Period (FY) 2008 – 2012
Keywords反応性プラズマ / プロセス診断 / プラズマ-固体表面相互作用 / プラズマプロセス制御 / アモルファス炭素膜
Research Abstract

(1)ダイヤモンドライクカーボン(DLC)に代表されるアモルファス炭素膜は、一般に、プラズマプロセスで形成され、すでに機械部品のコーティングなど産業面で盛んに応用されている。しかし、実際にはプラズマプロセスを制御できず、製品にはばらつきが発生し、実用化が進まないものさえある。この原因として、これまでプラズマプロセスの物理・化学的側面を十分に明らかにされてこなかったことが挙げられる。そこで、「プラズマプロセスによるアモルファス炭素膜の成長メカニズムを明らかにした上で、時々刻々変化する反応性プラズマプロセスを制御する方法を世界に先駆けて提示する」ことが目的である。
(2)プラズマ中でも表面およびその近傍での反応が計測可能な多重内部反射型赤外吸収分光法を備えた実験装置を構築する。この装置には、気相診断もできるように、発光分光などの気相診断もできるようにする。
(3)プラズマ中およびプラズマ-固体表面の相互作用について分光法を用いて計測する。
(4)膜質を様々などを用いて解析し、プラズマ条件との関係を調べる。

  • Research Products

    (11 results)

All 2011 2010 2009 2008

All Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (5 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Infrared Spectroscopic Study on Hydrogen Plasma Induced Surface Reaction2010

    • Author(s)
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • Journal Title

      Proceedings of TENCON 2010

      Pages: 1948-1950

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma Investigated with Infrared Spectroscopy2010

    • Author(s)
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • Journal Title

      Trans.of MRS-Japan vol.35

      Pages: 563-566

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析2010

    • Author(s)
      篠原正典, 他8名(1番目)
    • Journal Title

      表面科学 Vol.31

      Pages: 400-404

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2010

    • Author(s)
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • Journal Title

      Thin Solid Films Vol.518

      Pages: 3497-3501

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Substrate temperature effects on amorphous carbon film growth, investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry2009

    • Author(s)
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • Journal Title

      J.Vac.Sci.and Technol.A Vol.27

      Pages: 813-817

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] プラズマプロセスの赤外分光解析2011

    • Author(s)
      篠原正典
    • Organizer
      「原子分子光の素過程とプラズマ分光の研究フロンティア」「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会
    • Place of Presentation
      岐阜県核融合科学研究所(招待講演)
    • Year and Date
      2011-02-04
  • [Presentation] Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma2010

    • Author(s)
      M.Shinohara
    • Organizer
      7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference
    • Place of Presentation
      Paris-France
    • Year and Date
      2010-10-06
  • [Presentation] Investigation of amorphous carbon film deposition process2010

    • Author(s)
      M.Shinohara
    • Organizer
      1st International Workshop on Plasma Scientech for All Something
    • Place of Presentation
      Beijin-China(招待講演)
    • Year and Date
      2010-05-15
  • [Presentation] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2009

    • Author(s)
      M.Shinohara
    • Organizer
      22nd Symposium on Plasma Science for Materials
    • Place of Presentation
      東京大学山上会館
    • Year and Date
      2009-06-16
  • [Presentation] Investigation of growth mechanism of diamond-like carbon film2008

    • Author(s)
      M.Shinohara
    • Organizer
      55^<th> International symposium of American Vacuum society
    • Place of Presentation
      Boston-USA
    • Year and Date
      2008-10-21
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置2009

    • Inventor(s)
      中谷達之、新田祐樹、篠原正典、藤山寛
    • Industrial Property Rights Holder
      長崎大学、トーヨーエイテック(株)
    • Industrial Property Number
      特許.特願2009-115707
    • Filing Date
      2009-05-12

URL: 

Published: 2012-03-09   Modified: 2016-04-21  

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