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2008 Fiscal Year Annual Research Report

Co基ホイスラー合金を用いたSi中への高効率スピン注入

Research Project

Project/Area Number 20760478
Research InstitutionNational Institute for Materials Science

Principal Investigator

介川 裕章  National Institute for Materials Science, 磁性材料センター, 研究員 (30462518)

Keywordsスピンエレクトロニクス / 超薄膜 / 磁性
Research Abstract

本研究課題では,スピントロニクスを既存の半導体デバイス技術に応用し,新規不揮発性高集積ロジック回路(スピンMOSFET)への展開のために「室温で高いスピン分極率を待つことが期待されるCFAS合金を用いたSi半導体への高いスピン注入効率の実現」を目指す。具体的には完全スピン偏極した材料:「ハーフメタル」を用い,不揮発性を持つシリコントランジスタの実現に必要な要素技術の開発を行う。ハーフメタル材料の候補として,現在までにL2_1構造を有するCo基フルホイスラー合金,特にCo_2Fe(Al_<0.5>Si_<0.5>)合金(以下CFAS)を開発してきた。CFAS合金は高いキュリー点を持ち,フェルミ準位がマイノリティスピンバンドギャップのほぼ中央に位置するため,熱による影響を受けにくく室温以上でも高スピン分極率を保持できる。初年度の研究内容として,CFAS合金における高スピン分極率を得るためには,CFAS層中のD03的不規則性を,組成制御などを通して低減する方策が必要であることが示された。また,いままで高いスピン分極率を得るためには単結晶MgO基板上にCFAS層をはじめとする多層膜構造をエピタキシャル成長させていたが,これは下部層を選ぶということで本課題を進める上で大きな制限となっている。そこで,本年度はアモルファスSiO_2基板上に(001)配向したCFAS薄膜を成長させる技術も確立した。SiO_2基板上に構造最適化した強磁性トンネル接合を作製したところ,室温130%,7Kで225%の大きなTMR比が実現された。これは(001)配向が実現されればCFAS薄膜は高スピン偏極電流源として用いることが可能であることを示している。

  • Research Products

    (9 results)

All 2009 2008 Other

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results) Presentation (6 results)

  • [Journal Article] Large tunnel magnetoresistance in Co_2FeAl_<0.5>Si_<0.5>/MgO/Co_2FeAl_<0.5>Si_<0.5> magnetic tunnel junctions prepared on thermally oxidized Si substrates with MgO buffer2009

    • Author(s)
      W. H. Wang, Hiroaki Sukegawa, R. Shan, and K. Inomata
    • Journal Title

      Applied Physics Letters 93

      Pages: 122507-1〜3

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Tunnel Magnetoresistance in Full-Heusler Co_2FeAl_<0.5>Si_<0.5>-Based Magnetic Tunnel Junctions

    • Author(s)
      H. Sukegawa, W. H. Wang, R. Shan, and K. Inomata
    • Journal Title

      Journal of The Magnetics Society of Japan, in press

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Spin-Polarized Tunneling Spectroscopy of Fully-Epitaxial Magnetic Tunnel Junctions Using Co_2FeAl_<0.5>Si_<0.5> Heusler Alloy Electrodes

    • Author(s)
      H. Sukegawa, W. H. Wang, R. Shan, T. Nakatani, K. Inomata, and K. Hono
    • Journal Title

      Physical Review B, in press

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 熱酸化膜付Si基板上に作製したCo2FeAl0.5Si0.5/MgO/Co2FeAl0.5Si0.5強磁性トンネル接合2009

    • Author(s)
      介川裕章, 他
    • Organizer
      2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      筑波大学, 茨城県つくば市天王台1-1-1, つくば市
    • Year and Date
      20090330-0402
  • [Presentation] フルホイスラ-Co2FeAl0.5Si0.5合金を用いた強磁性トンネル接合のTMR効果2009

    • Author(s)
      介川裕章, 他
    • Organizer
      2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      筑波大学, 茨城県つくば市天王台1-1-1, つくば市
    • Year and Date
      20090330-0402
  • [Presentation] Tunnel magnetoresistance effect and tunneling conductance in magnetic tunnel junctions with full-Heusler Co2FeA10.5Si0.5 electrodes2008

    • Author(s)
      H. Sukegawa et al
    • Organizer
      53rd Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials
    • Place of Presentation
      Austin, Austin, USA
    • Year and Date
      20081111-14
  • [Presentation] フルエピタキシャルCo2FeA10.5Si0.5/MeO/Co2FeA10.5Si0.5強磁性トンネル接合のスピン偏極トンネル分光2008

    • Author(s)
      介川裕章, 他
    • Organizer
      第32回日本磁気学会学
    • Place of Presentation
      東北学院大学多賀城キャンパス, 多賀城市文化センター, 宮城県仙台市
    • Year and Date
      20080912-15
  • [Presentation] フルホイスラ-Co2FeA10.5Si0.5合金を用いた強磁性トンネル接合のトンネルコンダクタンス2008

    • Author(s)
      介川裕章, 他
    • Organizer
      第69回応用物理学会学
    • Place of Presentation
      中部大学, 愛知県春日井市
    • Year and Date
      20080902-05
  • [Presentation] MgO基板MgOバッファ層上に作製したCo2FeAl0.5Si0.5フルホイスラー合金の結晶構造および磁気特性2008

    • Author(s)
      介川裕章, 他
    • Organizer
      第69回応用物理学会学
    • Place of Presentation
      中部大学, 愛知県春日井市
    • Year and Date
      20080902-05

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Published: 2010-06-11   Modified: 2016-04-21  

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