2020 Fiscal Year Annual Research Report
Removal of Motion and Touch Noises Using Shielded Nanomesh Electronics
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20F20358
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
横田 知之 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 准教授 (30723481)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
KIM JAE JOON 東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 外国人特別研究員
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| Project Period (FY) |
2020-11-13 – 2023-03-31
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| Keywords | スキンエレクトロニクス / フレキシブルセンサ / 電子デバイス |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本年度は、ナノメッシュ電極に金属/絶縁膜/金属の三層構造を適用することで、指などが触れた際のノイズレベルを低減できるシールド構造を有するナノメッシュ電極の開発に取り組んだ。絶縁膜としては、CVD法で形成ができるパリレンを用いることで、ファイバー上に均一に膜を形成することを試みた。絶縁膜の厚さが数百nmと薄い場合、上部電極と被電極間で短絡してしまうことがあったために、絶縁膜の厚さとプロセス条件の最適化を行った。その結果、パリレン絶縁膜を厚くすることで、三層構造を実現することに成功した。
開発したナノメッシュ電極を用いて、指で触った際のノイズレベルを評価したところ、従来の構造のナノメッシュ電極と比較して、1桁程度の改善をすることに成功した。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
コロナウィルス感染症の影響で研究時間が限られていたものの、オンラインでの打ち合わせなどを頻繁に行うことで、効率よく研究を進めることができた。1年目としては、構造の最適化部分をほぼ終えることができており、研究の進捗状況としてはおおむね順調である。
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| Strategy for Future Research Activity |
今後は、開発したシールド構造を有するナノメッシュセンサを用いた生体計測に関する研究を進めていく予定である。特に、これまで計測が難しかった日常生活内での筋電計測などに関して行っていく予定である。
さらに、今回開発したシールド構造をそのほかのセンサなどにも応用していく予定である。
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