二光子重合造形の深紫外領域への展開と応用

2020 Fiscal Year Comments on the Screening Results

• Project/Area Number: 20H00210
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Review Section: Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields
• Research Institution: Hokkaido University
• Principal Investigator: Taguchi Atsushi 北海道大学, 電子科学研究所, 准教授 (70532109)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 石飛 秀和 大阪大学, 大学院生命機能研究科, 准教授 (20372633) ; 田中 慎一 呉工業高等専門学校, 自然科学系分野, 准教授 (30455357) ; 田口 智清 京都大学, 情報学研究科, 教授 (90448168) ; 笹木 敬司 北海道大学, 電子科学研究所, 教授 (00183822)
• Project Period (FY): 2020-04-01 – 2023-03-31

Outline of Opinions Expressed in the Review Results

光化学反応を利用する三次元ナノプリンティングにおいて、２光子吸収の利用は高い空間分解能実現の観点から注目を集めている。本研究は、光化学反応の開始に必要なエネルギーを深紫外レベルにまで高めることを提案しており、従来法では励起できなかった様々な光化学反応を三次元ナノプリンティング技術に展開することを目指している。
従来の２光子吸収では、励起エネルギーが低く、利用できる光化学反応が限定されたが、深紫外光に対応するエネルギー域までを対象とすることによって、半導体や金属までを直接扱うことが可能になるため、三次元ナノプリンティング技術の大幅な高度化が期待できる。