2022 Fiscal Year Annual Research Report
ダイレクトリソグラフィの実現を指向した金属極細線加工材料・プロセスの創出
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20H02489
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Research Institution | National Institutes for Quantum Science and Technology |
Principal Investigator |
山本 洋揮 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 量子機能創製研究センター, 主幹研究員 (00516958)
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Project Period (FY) |
2020-04-01 – 2023-03-31
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Keywords | 材料・加工 / 半導体微細化 / ナノ加工 / ナノ材料 / レジスト材料 / リソグラフィ |
Outline of Annual Research Achievements |
人工知能など情報技術を支えるコンピュータ性能の更なる向上のため、次世代リソグラフィ技術では10nm未満の加工が必要不可欠である。従来の紫外光から、電離作用を引き起こす極端紫外光(EUV)や電子線(EB)など量子ビーム利用が求められているが、レジスト材料の要求性能を向上させる設計指針がない。本研究では、量子ビームに対応した新規レジスト材料として金属酸化物ナノ粒子レジストに着目し、量子ビームによるナノ空間で誘起される物理・化学過程を解析することで高感度、高解像度を達成し、シングルナノパターンの熱処理による金属ナノ配線の創製技術を確立することを目指す。 令和4年度および5年度は金属酸化物ナノ粒子のコアとしてEUV吸収係数が高い3種類の金属コアとこれまでとは違う2種類のリガンドを選定し、6種類のメタルレジストの合成を試み、3種類の金属酸化物ナノ粒子の合成に成功した。これらを電子線およびEUVで感度曲線およびパターニング実験を行った結果、EUVおよびEBに対してHfの金属コアからなるメタルレジストが最も感度が高いことがわかった。また、100 kVの電子ビーム描画装置を使って微細パターンを試みた結果、32nmの1:1のラインアンドスペースパターンが解像可能であることを明らかにした。さらに、合成した金属酸化物ナノ粒子薄膜の現像過程を水晶振動子マイクロバランス法(QCM法)で調べた結果、金属酸化物ナノ粒子でも測定可能であることを実証した。さらに、さらに、メタルレジストのパターン中での有機配位子による熱脱離性の違いを調べた。
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Research Progress Status |
令和4年度が最終年度であるため、記入しない。
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Strategy for Future Research Activity |
令和4年度が最終年度であるため、記入しない。
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