• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2022 Fiscal Year Annual Research Report

ダイレクトリソグラフィの実現を指向した金属極細線加工材料・プロセスの創出

Research Project

Project/Area Number 20H02489
Research InstitutionNational Institutes for Quantum Science and Technology

Principal Investigator

山本 洋揮  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 量子機能創製研究センター, 主幹研究員 (00516958)

Project Period (FY) 2020-04-01 – 2023-03-31
Keywords材料・加工 / 半導体微細化 / ナノ加工 / ナノ材料 / レジスト材料 / リソグラフィ
Outline of Annual Research Achievements

人工知能など情報技術を支えるコンピュータ性能の更なる向上のため、次世代リソグラフィ技術では10nm未満の加工が必要不可欠である。従来の紫外光から、電離作用を引き起こす極端紫外光(EUV)や電子線(EB)など量子ビーム利用が求められているが、レジスト材料の要求性能を向上させる設計指針がない。本研究では、量子ビームに対応した新規レジスト材料として金属酸化物ナノ粒子レジストに着目し、量子ビームによるナノ空間で誘起される物理・化学過程を解析することで高感度、高解像度を達成し、シングルナノパターンの熱処理による金属ナノ配線の創製技術を確立することを目指す。
令和4年度および5年度は金属酸化物ナノ粒子のコアとしてEUV吸収係数が高い3種類の金属コアとこれまでとは違う2種類のリガンドを選定し、6種類のメタルレジストの合成を試み、3種類の金属酸化物ナノ粒子の合成に成功した。これらを電子線およびEUVで感度曲線およびパターニング実験を行った結果、EUVおよびEBに対してHfの金属コアからなるメタルレジストが最も感度が高いことがわかった。また、100 kVの電子ビーム描画装置を使って微細パターンを試みた結果、32nmの1:1のラインアンドスペースパターンが解像可能であることを明らかにした。さらに、合成した金属酸化物ナノ粒子薄膜の現像過程を水晶振動子マイクロバランス法(QCM法)で調べた結果、金属酸化物ナノ粒子でも測定可能であることを実証した。さらに、さらに、メタルレジストのパターン中での有機配位子による熱脱離性の違いを調べた。

Research Progress Status

令和4年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

令和4年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (8 results)

All 2024 2023 2022

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Invited: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] A study on the resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and electron-beam lithography2024

    • Author(s)
      Yamamoto Hiroki、Ito Yuko Tsutsui、Okamoto Kazumasa、Shimoda Shuhei、Kozawa Takahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 63 Pages: 04SP87~04SP87

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ad38c5

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Competitive coexistence of ferromagnetism and metal insulator transition of VO2 nanoparticles2024

    • Author(s)
      Hatano Tsuyoshi、Fukawa Akihiro、Yamamoto Hiroki、Akiba Keiichirou、Demura Satoshi、Takase Kouichi
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 63 Pages: 04SP07~04SP07

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ad2d04

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Study on Resist Performance of Inorganic-Organic Resist Materials for EUV and EB Lithography2024

    • Author(s)
      Hiroki Yamamoto, Yuko Tsutsui Ito, Kazumasa Okamoto and Takahiro Kozawa
    • Organizer
      SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] フォトリソグラフィと電子線リソグラフィのメタルレジストの リソグラフィ特性における基礎研究2023

    • Author(s)
      山本 洋揮,古澤孝弘
    • Organizer
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] メタルレジストのレジスト性能に関する研究2023

    • Author(s)
      山本洋揮,岡本一将,古澤孝弘,前川康成
    • Organizer
      第66回放射線化学討論会
  • [Presentation] レジスト材料における超短パルスEUV照射効果に関する研究2023

    • Author(s)
      山本洋揮,保坂勇志,石野雅彦,ヂンタンフン,古澤 孝弘,前川康成
    • Organizer
      第72回高分子討論会
    • Invited
  • [Presentation] Study on Resist Performance of Inorganic-Organic Resist Materials for EUV and EB Lithography2023

    • Author(s)
      Hiroki Yamamoto, Yuko Tsutsui Ito, Kazumasa Okamoto and Takahiro Kozawa
    • Organizer
      36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)
    • Int'l Joint Research
  • [Patent(Industrial Property Rights)] レジスト材料、レジストパターンの製造方法、及び レジストパターン2022

    • Inventor(s)
      吉村公男、山本洋揮、出崎亮、古澤孝弘、前川康成、他3名
    • Industrial Property Rights Holder
      量子科学技術研究開発機構
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2022-067860

URL: 

Published: 2024-12-25  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi