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2022 Fiscal Year Annual Research Report

Study of dynamical extreme ultraviolet radiation driven material interactions

Research Project

Project/Area Number 20K03893
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

田中 のぞみ  大阪大学, レーザー科学研究所, 特任助教(常勤) (60581296)

Project Period (FY) 2020-04-01 – 2023-03-31
Keywords極端紫外(EUV)光 / 光電離プラズマ
Outline of Annual Research Achievements

水素ガスに対する高強度集光EUV光による光電離プラズマの特性を理解した。本年度はキセノン光源プラズマからのEUV帯域外放射に関する研究を行なった。一次元輻射流体コードSTAR 1Dを用いて、レーザー照射強度に対するEUVおよび帯域外放射スペクトルを求めた。照射強度が1E10-1E11 W/cm^2の領域ではEUV帯域内にピークを持つスペクトルが得られ、照射強度が1E8 W/cm^2まで下がるにつれて100 nm帯の帯域外放射が主となるスペクトルにシフトすることが分かった。一方実験的にX線フォトダイオードを用いて全帯域にわたる計測と、20 nm以下のEUV帯域内の計測を行なった。1E11 W/cm^2から1E9 W/cm^2に強度を下げると、帯域外光/帯域内光の割合が1倍から100倍程度まで増加した。水素分子の断面積データからEUVおよび帯域外放射を水素ガスに集光照射した際、2つのレーザー強度領域では水素への光の吸収過程が全く異なり、1E10 W/cm^2台以上のレーザー照射では光電離過程、1E10 W/cm^2台を切ると光解離過程が主な吸収過程となることが示唆された。レーザー強度4E11 W/cm^2の条件で放射されるEUVドミナント光を集光し、水素ガスに照射した水素光電離プラズマについて特性を調べた。レーザー誘起蛍光法を用いて基底状態にある水素原子の密度計測を行った。また受動分光で得られたバルマー線の強度から得られたn=3,4,5の励起状態水素原子密度と合わせて、4.8E14 cm^-3の水素原子密度がプラズマ中で得られていることが分かった。軌道ごとの水素原子密度分布は、イオン化と再結合を考慮した衝突輻射モデルを用いた理論計算との良い一致を示した。更に基底状態と励起状態の水素原子密度時間発展データにより、準定常状態の再結合プラズマであることが示唆された。

  • Research Products

    (6 results)

All 2023 2022

All Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Presentation] Comparison of focusing optics for extreme vacuum ultraviolet and vacuum ultraviolet emission from laser produced plasma2023

    • Author(s)
      Nozomi Tanaka, Yubo Wang, Katsunobu Nishihara, Shinsuke Fujioka, Atsushi Sunahara, Tomoyuki Johzaki, Kyung Sik Kang, Youngduk Suh, Jeong-Gil Kim, Shinji Ueyama, Ken Ozawa
    • Organizer
      応用物理学会春期学術講演会
  • [Presentation] Spectroscopic diagnostics of H-radicals formed by an extreme ultraviolet light source generated with a laser produced plasma2023

    • Author(s)
      James Edward Hernandez, Nozomi Tanaka, Yubo Wang, Katsunobu Nishihara, Shinsuke Fujioka, Atsushi Sunahara, Tomoyuki Johzaki, Kyung Sik Kang, Youngduk Suh, Jeong-Gil Kim, Shinji Ueyama, Ken Ozawa
    • Organizer
      応用物理学会春期学術講演会
  • [Presentation] Actively controlled radical production in a photo-ionized hydrogen plasma for tin contamination cleaning2022

    • Author(s)
      N. Tanaka, Y. Wang, K. Nishihara, S. Fujioka, A. Sunahara, T. Johzaki, Kyung Sik Kang, Youngduk Suh, Jeong-Gil Kim, S. Ueyama, K. Ozawa
    • Organizer
      6th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Characteristics of the extreme ultraviolet spectrum from a laser produced plasma2022

    • Author(s)
      Nozomi Tanaka, Yubo Wang, James Edward Hernandez, Katsunobu Nishihara, Shinsuke Fujioka, Atsushi Sunahara, Tomoyuki Johzaki, Kyung Sik Kang, Youngduk Suh, Jeong-Gil Kim, Shinji Ueyama, Ken Ozawa
    • Organizer
      応用物理学会秋期学術講演会
  • [Presentation] A high-transmittance Schwarzschild objective (SO) to focus high-intensity EUV-VUV light from laser-plasma light source2022

    • Author(s)
      Yubo Wang, Nozomi Tanaka, Katsunobu Nishihara, Shinsuke Fujioka, Atsushi Sunahara, Tomoyuki Johzaki, Kyung Sik Kang, Youngduk Suh, Jeong-Gil Kim, Shinji Ueyama, Ken Ozawa
    • Organizer
      応用物理学会秋期学術講演会
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 露光装置及び汚染除去装置2022

    • Inventor(s)
      田中のぞみ 他7名
    • Industrial Property Rights Holder
      田中のぞみ 他7名
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2022-148245

URL: 

Published: 2023-12-25  

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