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2022 Fiscal Year Research-status Report

三次元フォトリソグラフィ

Research Project

Project/Area Number 20K05289
Research InstitutionOsaka Metropolitan University

Principal Investigator

笹子 勝  大阪公立大学, 大学院工学研究科, 客員研究員 (40727145)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 平井 義彦  大阪公立大学, 大学院工学研究科, 客員研究員 (50285300)
Project Period (FY) 2020-04-01 – 2024-03-31
Keywordsフォトリソグラフィ / 3次元結像 / 一括露光
Outline of Annual Research Achievements

3次元リソグラフィ用のマスの最適設計を行う計算機システムを開発し,これを応用したマスクの試作と,試作したマスクを用いて,3次元構造の露光実験に着手した.
試行実験により,レジストの厚膜塗布の均一性,現像時のパターン倒れなどの課題を確認した.このうち,現像時のパターン倒れについては,表面張力を抑制する従来の超臨界現像方式を参考に,現像液の流動と抑制した専用の低表面張力現像機を作製した.,これにより,表面張力と流動によるパターン倒れなどの欠陥が抑制できた.
これと並行して,露光実験を行い,これまでに3次元ピラミッドフレーム状構造,傾斜梁構造などの3次元構造の空間結像性について評価をおこなった.ビラミッドフレームについては,これまでの先行実験での結果を,別形状で検証できた.一方,傾斜梁構については,現像時のパターン倒れにより,一部の構造が形成できている状態に留まった.
これらの実験結果より,一括露光による3次元空間での結像の確認と,表面張力によるパターン崩れなどの今後の課題が抽出と,解決策の一部が検証できた.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

3: Progress in research has been slightly delayed.

Reason

感染状況による実験遂行時間の減少と,表面張力現象によるマイクロ構造のスティッキング状態の解決に,専用現像機の作製などに時間を要したため.

Strategy for Future Research Activity

これまでの研究で明らかになった課題を解決し,3次元結像の検証に向けて,実験とその解析を進める

Causes of Carryover

実験消耗品などの実験遂行のため

  • Research Products

    (2 results)

All 2023

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (1 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results)

  • [Journal Article] Computational study of 3-dimensional photo lithography on limitations and possibility for novel structures2023

    • Author(s)
      Hirai Yoshihiko、Osumi Tomoaki、Tanaka Toshiaki、Yasuda Masaaki、Sasago Masaru
    • Journal Title

      Proceedings of SPIE Advanced Lithography + Patterning

      Volume: 12497 Pages: 1-7

    • DOI

      10.1117/12.2658128

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Computational study of 3-dimensional photo lithography on limitations and possibility for novel structures2023

    • Author(s)
      Hirai Yoshihiko、Osumi Tomoaki、Tanaka Toshiaki、Yasuda Masaaki、Sasago Masaru
    • Organizer
      SPIE Advanced Lithography + Patterning
    • Int'l Joint Research

URL: 

Published: 2023-12-25  

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