2021 Fiscal Year Annual Research Report
Development of a drafting system for paper-cutting with a difficulty level balanced with the skill level of production
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20K23350
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| Research Institution | Tokyo Denki University |
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Principal Investigator |
東 孝文 東京電機大学, システムデザイン工学部, 助教 (90879967)
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| Project Period (FY) |
2020-09-11 – 2022-03-31
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| Keywords | 芸術創作支援 / ヒューマンタスクモデル / フロー理論 / 難易度分析 / 自己効力感 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本課題では， 初心者の製作に多く見られる「自身の技能と不釣り合いな難易度での製作による芸術創作活動の阻害」を解決するために，製作者の技能に釣り合う難易度を持つ下絵を製作するシステムを開発する． このシステムは「1 技能に釣り合った難易度の選定」， 「2 任意画像の切り絵画風変換する機能」が必要である． 本システムで生成した下絵で制作した時の裁断動作や心理状態を分析することで， 技能と難易度との釣り合いについて評価する． 本システムで生成した下絵で制作した時 の裁断動作や心理状態を分析することで，技能と難易度との釣り合いについて評価する.上 記システムの実証実験として，制作の未経験な初心者からアーティストとして活動する熟練 者を対象にワークショップを実施する.結果，制作者が任意に選択した画像に対し，自身の 技能に個人最適化した難易度の下絵へと画風変換により生成するシステムを実現する.
本年度は本課題の「2 任意画像の切り絵画風変換する機能」について取り組んだ． 切り絵の下絵は絵となる部分の黒色と切り落とされる白色の2色の領域に分かれる． 下絵の製作難易度は裁断する線と黒色領域の太さに影響を受ける． 初心者向けの図案集の難易度を計測し， 図案集が示す5段階の難易度を定量化し， 指標を作成した． また， 任意の下絵画像に対し， 裁断する線の太さを制御することで， 下絵の難易度を調整するシステムを開発した． このシステムを使用し， 初心者向けの難易度を持つ下絵を生成することで， 実際に初心者が製作したとき， 技能向上効果や心理状態が向上することを確認した．
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Research Products
(2 results)
