2009 Fiscal Year Annual Research Report
電界誘起バンドギャップによるグラフェン原子薄膜高速トランジスタ
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21241038
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Research Institution | National Institute for Materials Science |
Principal Investigator |
塚越 一仁 National Institute for Materials Science, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, MANA主任研究者 (50322665)
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Keywords | グラフェン / 電気伝導 / 電界効果 / 基礎物性 / 自己形成 |
Research Abstract |
H21年度中に100個を超える二層グラフェントランジスタを試作し、グラフェンに強電界を印加して、2層グラフェンにだけ形成可能なバンドギャップの特性を調べた。グラフェンにソース・ドレイン電極を形成した後に、グラフェン上に直接アルミニウムを蒸着して1時間程度空気中に放置すると、グラフェンとアルミニウム界面に絶縁膜が形成される。このため、このグラフェン上のアルミニウムはゲート電極として使える。ゲート電極の電流リーク特性を詳細に調べ、ソース・ドレイン間電流よりも充分にリーク電流を抑制することが出来ることが分かった。(本法の再現性の高さと簡便さが評価され、複数のグループから情報提供を求められている。)さらに、高ドープ基板に電圧を印加して、グラフェンに電界を印加することも可能なため、アルミニウムゲート電極を併用して、グラフェンに強電界を印加出来るようになった。電界が1.5V/nm程度の時に、バンドギャップが形成されていることが温度変化から明確になった。この温度変化による実験から、グラフェンのバンドギャップが有効な電気伝導は、バンドギャップ中に存在する局在順位を介した電気伝導との大小関係によって顕著になるか、もしくは検出不可能となるかが実験で分かった。つまり、このバンドギャップ中の局在順位の密度は、グラフェンの電界効果移動度と相関していることもわかり、グラフェンの結晶性を向上させなければならないことが明確になった。今後、この点に注目した特性解明と特性向上の技術開発を進める。
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Research Products
(17 results)
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[Journal Article] Anisotropic transport in epitaxial graphene on SiC substrate with periodic nanofacets2010
Author(s)
S.Odaka, H.Miyazaki, S, -L Li, A.Kanda, K.Morita, S.Tanaka, Y.Miyata, H.Kataura, K.Tsukagoshi, Y.Aoyagi
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Journal Title
Applied Physics Letters 96
Pages: 062111/1-3
Peer Reviewed
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[Journal Article]2009
Author(s)
宮崎久生, 日浦英文, 塚越一仁
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Journal Title
グラフェンの物性,評価,第5章「グラフェンの作製、膜厚の評価、観察」(シーエムシー出版)
Pages: 79-89
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[Presentation] Electric transport in epitaxial graphene on vicinal SiC substrate with periodic atomic-scale facets2009
Author(s)
S.Odaka, H.Miyazaki, A.Kanda, K.Morita, S.Tanaka, Y.Miyata, H.Kataura, K.Tsukagoshi, Y.Aoyagi
Organizer
Material Research Society (MRS) 2009 Fall Meeting
Place of Presentation
Hynes Convention Center, Boston, USA
Year and Date
20091130-20091204
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[Presentation] Anisotropic transport in epitaxial graphene transistor on vicinal SiC substrate2009
Author(s)
S.Odaka, H.Miyazaki, A.Kanda, K.Morita, S.Tanaka, Y.Miyata, H.Kataura, K.Tsukagoshi, Y.Aoyagi
Organizer
2009 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2009)
Place of Presentation
Sendai Kokusai Hotel, Sendai, Japan
Year and Date
20091007-20091009
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[Presentation] Gate induced band gap for graphene device2009
Author(s)
K.Tsukagoshi, H.Miyazaki, A.Kanda
Organizer
9th Biennial Workshop in Russia, Fullerenes and Atomic Clusters (IWFAC2009)
Place of Presentation
Ioffe Physico-Technical Institute of the Russian Academy of Sciences, St Petersburg, Russia
Year and Date
20090706-20090710
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