2009 Fiscal Year Annual Research Report
表面ナノ加工基板を用いた表面支援レーザー脱離イオン化質量分析システム
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21310072
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| Research Institution | Hokkaido University |
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Principal Investigator |
米澤 徹 Hokkaido University, 大学院・工学研究科, 教授 (90284538)
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| Keywords | 質量分析 / レーザー脱離イオン化 / ナノサイズ / 電気化学 / 成分腐食法 / 薬物・毒物 / 表面科学 / Dealloy |
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| Research Abstract |
表面支援レーザー脱離イオン化法に対する新しい基板の構築とその脱離・イオン化メカニズムの解明を行っている。本年度は、金属腐食の機構を有効に用いて、合金基板から特定の金属元素のみを選択的に溶解させるDealloy法(脱成分腐食法)や電気化学的手法によってナノ～オングストロームレベルでの凹凸をもつ金属ならびに半導体基板の作製ならびにその処理・表面構造解析とレーザー脱離イオン化について検証するとともに、そのメカニズム解明のための装置設計を行った。具体的には銅/白金合金基板から銅のみを溶解させエッチングし、表面でナノからオングストロームレベルの凹凸をもつ基板を作成することに成功した。その凹凸のサイズについては、処理法によって制御可能であった。その基板の表面SEM写真および断面TEM写真の撮影を行い、その凹凸について評価した。また、電気化学的操作によるナノレベルの凹凸をもち、かつ、先端を先鋭にした基板の開発にも成功している。こうした基板を用いたLDI実証試験を行っているところであり、いくつかの低分子化合物とペプチド・タンパクの高効率なソフトイオン化が可能となったことが示された。しかしながらいくつかの有機化合物は脱離されないことが見出され、その理由はまだ不明である。こうした脱離イオン化の詳細な機構を検証するために、レーザーによる有機物質脱離量を検量するためのシステム構築について設計を開始し、22年度、実際に作製に入る。
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[Journal Article] Internal distribution of micro-/nano-sized ceramics and metals particles in mice2010
Author(s)
Shigeaki Abe^*, Ikuhiro Kida, Mitsue Esaki, Nobuki Iwadera, Mami Mutoh, Chika Koyama, Tsukasa Akasaka, Motohiro Uo, Yoshinori Kuboki, Manabu Morita, Yoshinori Sato, Koichi Haneda, Tetsu Yonezawa, Balachan dran Jeyadevan, Kazuyuki Tohji, Fumio Watari
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Journal Title
Journal of Ceramics Society of Japan (印刷中)
Peer Reviewed
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