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2010 Fiscal Year Annual Research Report

スピン依存弾道電子マッピング法の開発と半導体へのスピン注入機構の解明

Research Project

Project/Area Number 21360023
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

長谷川 繁彦  大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (50189528)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 朝日 一  大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (90192947)
周 逸凱  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (60346179)
Keywordsスピン偏極 / 走査型トンネル顕微鏡 / スピンエレクトロニクス / 界面・表面物性 / 分子線エピタキシー / トンネル現象 / スピン依存状態密度
Research Abstract

1. GaN上に表面平坦性の良いFeナノ構造を形成し,スピン偏極走査型トンネル顕微鏡(SP-STM)で評価した.SP-STMから得た電流電圧特性から,スピンに依存した状態密度を反映した構造を得ることに成功し,それぞれのナノ構造は単磁区構造であるなどの,各ナノ構造の磁化特性に関する知見が得られた.この結果は,今後のスピン依存弾道電子マッピングを行う上で,スピン注入電極の磁化方向制御および測定に関した有用な知見を与えている.また,Fe膜厚を変えることにより結晶粒径が大きく変化しするに伴い,保磁力が大きく変わることも明らかとなった
2. GaNへのスピン注入効率向上と磁化特性制御に向けて,GaN上への酸化鉄および窒化鉄の形成を行った.酸化・窒化条件により,結晶構造,表面形状および磁化特性が大きく変わることが分かった.
3. 成長条件を変えてGaGdN薄膜をGaNテンプレート上に成長した.Gaリッチ条件下では,GaNより長いc軸を持つ薄膜がコヒーレントに成長するのに対して,Nリッチ側にGaNとa軸c軸ともにコヒーレントなGaGdN薄膜が成長する条件のあることを見出した.また,前者の薄膜内には自然超格子が形成されていることを見出した.室温での磁化特性は両者で同じであったが,その温度依存性に差があり,局在磁気モーメントを持つGdの配列を反映していると考えられる.前者の薄膜では,電気伝導特性がモット式に従うことから,Gd添加により局在領域が出来てその間を可変領域ホッピング型で伝導していると考えられる.縦磁気抵抗測定から,低磁場領域で正の磁気抵抗効果を,高磁場領域で負の磁気抵抗効果が見られた.前者はGdの局在磁気モーメントと伝導電子との間にスピン軌道相互作用が働いている証拠である.後者は,磁場印加により時間反転対称性が破れたことによると考えられる

  • Research Products

    (16 results)

All 2011 2010

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (14 results)

  • [Journal Article] Structural and magnetic properties of GaGdN/GaN superlattice structures2010

    • Author(s)
      Y. K. Zhou, S. W. Choi, S. Kimura, S. Emura, S. Hasegawa, and H. Asahi
    • Journal Title

      Thin Solid Films

      Volume: 518 Pages: 5659-5661

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Characterization of InGaGdN layers prepared by molecular beam epitaxy2010

    • Author(s)
      Siti Nooraya Mohd Tawil, Shigehiko Hasegawa
    • Journal Title

      Phys.Status Solidi RRL

      Volume: 4 Pages: 308-310

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] GaN(0001)表面上の窒化鉄薄膜の形成と評価2011

    • Author(s)
      米岡賢,古屋貴明,市原寛也,別府亜由美,長谷川繁彦, 朝日一
    • Organizer
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      20110324-27
  • [Presentation] 高濃度Gd添加GaGdNにおける自然超格子の形成2011

    • Author(s)
      東晃太郎, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-26
  • [Presentation] 希薄磁性半導体GaGdN薄膜構造あ成長条件依存性2011

    • Author(s)
      満野陽介, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-26
  • [Presentation] GaN(0001)表面上へのFeの二次元成長2011

    • Author(s)
      市原寛, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] GaN(0001)表面上の酸化鉄薄膜の形成と評価2011

    • Author(s)
      別府亜由美, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第58回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] GaN(0001)基板上に形成したFeクラスターの電流磁気効果2010

    • Author(s)
      古屋 貴明, 市原 寛也, 長谷川 繁彦, 朝日 一
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      20100914-17
  • [Presentation] Magnetic properties of Fe/Fe oxide core-shell clusters formed on GaN(0001)2010

    • Author(s)
      T.Furuya, S.Hasegawa
    • Organizer
      18th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy
    • Place of Presentation
      伊豆熱川 熱川ハイツ
    • Year and Date
      2010-12-09
  • [Presentation] Growth and characterization of transition-metal and rare-earth doped III-nitridesemiconductors for spintronics2010

    • Author(s)
      H.Asahi, S.Hasegawa
    • Organizer
      2010 Materials Research Society (MRS) Fall Meeting
    • Place of Presentation
      Boston (USA)(招待講演)
    • Year and Date
      2010-11-30
  • [Presentation] Feナノドットの磁気抵抗効果2010

    • Author(s)
      市原寛, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第30回表面科学学術講演会
    • Place of Presentation
      大阪大学コンベンションセンター
    • Year and Date
      2010-11-05
  • [Presentation] Magnetotransport properties in Gd-doped GaN grown by plasma-assisted molecular beam epitaxy2010

    • Author(s)
      S.Hasegawa
    • Organizer
      International Workshop on Nitride semiconductors IWN2010
    • Place of Presentation
      Tampa (USA)
    • Year and Date
      2010-09-22
  • [Presentation] Growth of Gd-doped InGaN/GaN multiple quantum wells and their characterization2010

    • Author(s)
      S.Hasegawa
    • Organizer
      International Workshop on Nitride semiconductors IWN2010
    • Place of Presentation
      Tampa (USA)
    • Year and Date
      2010-09-20
  • [Presentation] 希薄磁性半導体GaGdNおよびGaGdN/AlGaNヘテロ講造の電気特性と磁気特性評価2010

    • Author(s)
      安部大治郎, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-16
  • [Presentation] 逆格子空間マッピングを用いたGaGdNの構造解析2010

    • Author(s)
      東晃太朗, 長谷川繁彦
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-14
  • [Presentation] Magnetic property of Fe/Fe oxide core-shell clusters formed on GaN (0001)2010

    • Author(s)
      T.Furuya, S.Hasegawa
    • Organizer
      6th Handai Nanoscinece and Nanotechnology International Symposium
    • Place of Presentation
      大阪大学コンベンションセンター
    • Year and Date
      2010-06-01

URL: 

Published: 2012-07-19  

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