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2012 Fiscal Year Annual Research Report

量子輸送シミュレータによる極限シリコン新構造・新材料デバイスの設計

Research Project

Project/Area Number 21360171
Research InstitutionKobe University

Principal Investigator

小川 真人  神戸大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (40177142)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 相馬 聡文  神戸大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (20432560)
Project Period (FY) 2009-04-01 – 2013-03-31
Keywords非平衡グリーン関数法 / 第一原理計算 / 量子デバイスシミュレーション / 強束縛近似法 / トンネルトランジスタ
Research Abstract

次世代トランジスタの候補としてSiナノワイヤトランジスタが注目されている.ナノワイヤ(NW)構造では電流を制御するゲート電極面がチャネルを囲い込むGate All Around構造になり従来の構造よりも電流の制御力が向上するが,この構造でも短チャネル効果やソース・ドレイン間のリーク電流などスイッチング特性の劣化や消費電力の増大,製造誤差の拡大のために新材料や新構造を用いたデバイスの必要性が高まっている.本研究ではオフリーク電流を低減し,オン電流を増加させ,サブスレッショルドスイング(S値)を改善する構造としてSiナノワイヤとInAsナノワイヤのヘテロ接合バンド間トンネリングを利用した新構造デバイスの特性解析を行っている.原子配置の決定にはValence Force Field(VFF)法の一つとして知られるKeating Potentialを用いたポテンシャルの安定点で原子位置を決定する手法を用い,電子状態に関してはsp3s*d5軌道を考慮した経験的強束縛近似法(empirical tight-binding法)を用いた.キャリアの量子輸送に関しては非平衡Green関数法(NEGF法)をデバイス内のポテンシャル分布を求めるPoisson方程式と自己無撞着に解きヘテロ接合ナノワイヤトンネルトランジスタ(NWTFET)の電流電圧特性を解析している.SiNWとInAsNWの電子波の分散関係につき検討すると,電子の減衰状態の比較において,トンネルを生じるバンドギャップ中のエネルギーに対してSiNWの減衰定数の方が大きく,SiNWのみでTFETを構成すると低リーク電流,低オン電流となる(S値が60mV/dec以下)のに対し,InAs NWのみで構成すると高リーク電流,高オン電流となることが分かる.このことから両者を組み合わせたヘテロ接合NWTFETが有効であることが明らかとなった.

Current Status of Research Progress
Reason

24年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

24年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (6 results)

All 2012 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (2 results) Remarks (2 results)

  • [Journal Article] Comparisons of Performance Potentials of Si and InAs Nanowire MOSFETs under Ballistic Transport2012

    • Author(s)
      TAKIGUCHI Naoya+;KOBA Shunsuke+;TSUCHIYA Hideaki;OGAWA Matsuto
    • Journal Title

      IEEE Trans. on Electron Devices,

      Volume: Vol. 59, No. 1, Pages: pp. 206-211

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Atomistic Modeling of Electron-Phonon Interaction and Electron Mobility in Si Nanowires2012

    • Author(s)
      YAMADA Yoshihiro+;TSUCHIYA Hideaki;OGAWA Matsuto
    • Journal Title

      Journal of Applied Physics,

      Volume: Vol. 111, No. 6, Pages: 063720-1 -11

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Analysis of Tunneling Characteristics through Hetero Interface of InAs/Si Nanowire Tunneling Field Effect Transistors2012

    • Author(s)
      Y. Miyoshi, M. Ogawa, S. Souma, H. Nakamura*
    • Organizer
      SISPAD 2012
    • Place of Presentation
      Denver Co.
    • Year and Date
      20120905-20120909
  • [Presentation] Fast Perturbative Treatment for Efficient Nano-Scale Device Simulation Based on Bridge-Function Pseudo-Spectral Method2012

    • Author(s)
      Y. Saito, S. Souma, M. Ogawa
    • Organizer
      SISPAD 2012
    • Place of Presentation
      Denver Co.
    • Year and Date
      20120905-20120909
  • [Remarks] 研究紹介

    • URL

      http://www2.kobe-u.ac.jp/~lerl2/j_research.html

  • [Remarks] 研究費・受賞等

    • URL

      http://www2.kobe-u.ac.jp/~lerl2/j_work.html

URL: 

Published: 2014-07-24  

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