2010 Fiscal Year Annual Research Report
情報技術と製造技術の共進的内生化過程分析-大連シリコンバレー企業追跡実験
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21402024
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
藤 祐司 東京工業大学, 大学院・社会理工学研究科, 特任准教授 (20401557)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
渡辺 千仭 東京成徳大学, 経営学部, 教授 (60220901)
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| Keywords | ハイブリッド技術経営 / 大連ハイテクパーク / 共進的内生化 / 情報技術 |
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| Research Abstract |
1.平成22年度(2010年)は、3年計画の研究の2年目として、21年度までに行った研究体制の構築およびミクロ・マクロ分析手法のレビューをベースに、構築した国際的な研究ネットワークをフルに活用して、深化分析・比較評価を行うことを目的とした。
2.以上の研究の一環として、中国の共同研究者を日本に招へいしてのWorkshopを実施した他、10月に研究・技術計画学会において「大連ハイテクパークにおける日・中企業の共進的内生化過程分析」を発表したことをはじめ、共同研究者共々テーマに即した学会発表を実施。
3.また、日本・中国の共同研究者との協議において、先進国(日本)、新興国(中国)および発展途上国(エジプト)の3国間のマクロ・ミクロ両面からのIT活用状況の比較を行うことの有効性を確認し、3国間の研究体制を構築。
年度内のエジプト現地に赴いての実施踏査、データ収集・解析を計画。
4.2011年2月に予期せぬエジプト情勢の急速な悪化が発生。新政権の樹立により政治的に安定した翌年度の2012年2月に現地踏査を実施。
5.以上の結果、次のような注目すべき成果を得た。
(1)中国のITの発展は目覚ましく、その普及過程において利用者の旺盛な学習と相俟って、自己増殖的に高機能化し、併せて日本企業からのアウトソーシング需要などがそれを活性化。
(2)需要サイドの要求は、従来のコストパフォーマンス重視から、質的な要求への高度化しており、供給サイドにおいても日本的な情報処理・管理システムの発展が期待。
(3)以上の成果は、エジプトでの実地踏査による比較により多角的に検証した結果、類似プロセスが観察。
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