2011 Fiscal Year Annual Research Report
情報技術と製造技術の共進的内生化過程分析-大連シリコンバレー企業追跡実験
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21402024
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
藤 祐司 東京工業大学, 大学院・社会理工学研究科, 特任准教授 (20401557)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
渡辺 千仭 東京成徳大学, 経営学部, 教授 (60220901)
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| Keywords | ハイブリッド技術経営 / 大連ハイテクパーク / 共進的内生化 / 情報技術 |
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| Research Abstract |
1.平成23年度(2011年)は、3年計画の研究の最終年として、22年度までに行ったミクロ分析・深化分析・マクロ分析及び現地踏査、経年観測をベースに、構築した国際的な研究ネットワークをフルに活用して、総合分析・比較評価を行った上でとりまとめを実施。
2.以上の研究の一環として、エジプトを訪問した機会に、日本・中国・エジプトの先進国・新興国・発展途上国の三者間比較研究について、現地専門家と議論を行ったほか、10月に研究・技術計画学会において、「先進国と新進国の共進的内生化過程比較実証分析」をはじめ、共同研究者共々テーマに即した学会発表を実施。また、中国の共同研究者を日本に招へいしてのWorkshopを実施することで、特定課題に視点を据えた多層的な深化検討を行い、総合分析・比較評価を補完。
3.以上の結果、次のような注目すべき成果を得、命題解明への基本的知見を取得。
(1)中国のITの発展は目覚ましく、その普及過程において利用者の旺盛な学習と相侯って、自己増殖的に高機能化し、併せて日本企業からのアウトソーシング需要などがそれを活性化。
(2)このような需要サイドに触発された要求機能の高度化に応えるべく、供給サイドにおいても、日本固有のタイト・クローズドな通信事業者(オペレーター)・機器メーカー(ベンダー)間の連携が共進的に働き、共進化が発現。
(3)需要・供給両面における二重の共進ダイナミズムが製造業のイノベーションを誘発し、そのコア技術やビジネスモデルの革新への触媒的機能は、広く技術の浸透過程における性格形成を推進。
(4)以上に伴い、中国成長へのITの貢献は企業・消費者両面に浸透。
(5)一方、発展途上国たるエジプトにおけるITの貢献は現在限定的であり、今後のさらなる発展。
4.以上の成果は国内外学会に発表すると共に、国際学術誌に投稿し、最終取りまとめに収束。
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