• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2010 Fiscal Year Annual Research Report

ナノチューブを用いた高アスペクト比加工とTEM内その場観察による加工原理の解明

Research Project

Project/Area Number 21560133
Research InstitutionAichi Institute of Technology

Principal Investigator

松室 昭仁  愛知工業大学, 工学部, 教授 (80173889)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 高木 誠  愛知工業大学, 工学部, 教授 (40288428)
Keywordsカーボンナノチューブ / ナノスケールSTM加工 / カーボン材料 / 高アスペクト比加工 / TEM内その場観 / 加工原理 / 最適加工条件 / 線加工
Research Abstract

高機能なマイクロ・ナノデバイスの開発が期待されている.そのためには,ナノスケールでの高アスペクト比を有する三次元加工技術の確立が必要不可欠である.そこで,高精度な位置制御機能を有し,原子レベルでの観察,加工が可能な走査型トンネル顕微鏡(STM)に着目した.本研究では,自身がアスペクト比の高い構造的特徴を持つカーボンナノチューブ(CNT)を探針としてSTM加工を行い,マイクロ・ナノデバイスへ応用が可能なカーボン材料への高アスペクト比ナノスケール穴加工の実現を試みた.
CNTをSTM探針として用いて,カーボン材料(HOPG)への室温・大気中における高アスペクト比ナノスケール穴加工を実現し,加工条件が加工形状に及ぼす影響を検討した.また,加工断面およびその場観察により加工原理の推定を目的とする.
実験方法はCNT探針を試料上の一点に固定し点加工,または走査させ線加工を行う.加工条件はバイアス電圧3~7V,加工時間30~120s,トンネル電流0.1,1nAと変化させ行った.
大気中,室温における結果,HOPGに対する加工は可能であった.バイアス電圧の増加に伴い深さが増大するが,直径は3~5Vまで大きな変化はなく7Vで急激に大きくなった.加工時間の変化では,加工時間の増加に伴い深さが増加するのに対し,直径は30s,60sでは大きな変化はなく120sで急激に大きくなった.トンネル電流の変化では,直径は0.1nA,1nA共に大きな変化はない.深さは1nAでの加工が大きくなった.アスペクト比は,CNT探針では5V,60s,1nAの最適条件で1.8と最高になり,W探針での0.2に対し9倍もの増加が確認できた.また,高アスペクト比ナノスケール線加工を実現した.加工の幅も点加工の直径の大きさと同程度となり,CNT探針のSTM加工は線加工に応用できると確認できた.TEMを用いて加工断面の観察を行った結果,加工原理は電界蒸発によるものであると判断された.

  • Research Products

    (5 results)

All 2010

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (4 results)

  • [Journal Article] High-Aspect-Ratio Nanofabrication Using Carbon Nanotube Probe in Scanning Tunneling Microscope2010

    • Author(s)
      A.Matsumuro, M.Takagi
    • Journal Title

      Proceedings of the 10^<th> euspen International Conference

      Volume: 10 Pages: 282-285

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] CNT探針を用いたSTMによるカーボン材料の高アスペクト比ナノスケール加工2010

    • Author(s)
      岩見裕介, 高木誠, 松室昭仁
    • Organizer
      日本機械学会第2回マイクロ・ナノ工学シンポジウム
    • Year and Date
      20100000
  • [Presentation] 電圧印加に伴うナノスケール現象のTEM内その場観察スケール加工2010

    • Author(s)
      江間弘崇, 高木誠, 松室昭仁, 岩田博之
    • Organizer
      日本機械学会第2回マイクロ・ナノ工学シンポジウム
    • Place of Presentation
      松江
    • Year and Date
      2010-10-13
  • [Presentation] スパッタリング法によるTi-Ni形状記憶合金ナノスケール薄膜の作製と評価2010

    • Author(s)
      宇佐美幸博, 高木誠, 松室昭仁
    • Organizer
      日本機械学会第2回マイクロ・ナノ工学シンポジウム
    • Place of Presentation
      松江
    • Year and Date
      2010-10-13
  • [Presentation] TEMによる水酸アパタイトのマイクロ/ナノプロセスの解明2010

    • Author(s)
      冨田雅斗, 高木誠, 松室昭仁
    • Organizer
      日本機械学会第2回マイクロ・ナノ工学シンポジウム
    • Place of Presentation
      松江
    • Year and Date
      2010-10-13

URL: 

Published: 2012-07-19  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi