2009 Fiscal Year Annual Research Report
コヒーシンサブユニットSMC3のアセチル化修飾動態の解析
Project/Area Number |
21681025
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Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
Principal Investigator |
加藤 由起 Tokyo Institute of Technology, 大学院・生命理工学研究科, 特任助教 (50391917)
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Keywords | コヒーシン / アセチル化 / ChIP-chip解析 |
Research Abstract |
遺伝情報の正確な分配に必須であるコヒーシンによる姉妹染色分体の接着、確立は、染色体DNAが複製され二倍になるS期と連動していると考えられているが、どのように連動しているのか未だはっきりしていない。本研究では姉妹染色分体接着確立で中心的な役割を担っているアセチルトランスフェレースでもあるEcol(Establisbment of Cohesionl)に着目して、主に、アセチルトランスフェレースの主要なターゲットであるSmc3のアセチル化修飾に寄与している因子を明らかにすることを目標としている。当該年度は、アセチルトランスフェラーゼであるEcolの主要なターゲットであるSmc3のアセチル化修飾に寄与している因子について明らかにする為に、同調した細胞を使い、アセチル化修飾に寄与していると思われる因子(Ctf4, Ctf18など15因子)の欠失株を使用し、経時的にSmc3のアセチル化修飾の状態を確認した。15因子のうち、ctf4欠失株のみ、S期開始後、アセチル化修飾量が野生株と比べて有意に減少しているのが明らかになつた。そこで、現在はCtf4に的を絞って、アセチル化との関連を調べているところである。
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Research Products
(4 results)
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[Journal Article] Involvement of a chromatin remodeling complex in damage tolerance during DNA replication2009
Author(s)
Falbo KB, Alabert C, Katou Y, Wu S, Han J, Wehr T, Xiao J, He X, Zhang Z, Shi Y, Shirahige K, Pasero P, Shen X.
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Journal Title
Nat Struct Mol Biol. 16
Pages: 1167-1172
Peer Reviewed
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