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2010 Fiscal Year Annual Research Report

高性能バイポーラトランジスタのための高精度・局所歪み評価

Research Project

Project/Area Number 21760011
Research InstitutionKyushu University

Principal Investigator

王 冬  九州大学, 産学連携センター, 特任准教授 (10419616)

Keywords解析・評価 / 半導体物性 / 電子・電気材料 / 先端機能デバイス
Research Abstract

バイポーラ接合トランジスタ(BJT)の高性能化(高速・低消費電力化)を実現するための手法として、デバイスの活性層に歪みを印加する手法が有効となる。本研究では、高性能BJTを実現するための歪み制御を効率良く実現するために、局所歪みを高精度で評価する手法として、マイクロ・フォトルミネッセンス(μ-PL)を開発することを目的としている。H22年度の成果は以下の通りである。
(1)H21年度に構築した歪み評価用のフォトルミネッセンス測定システムを用いて、自立Siメンブレン構造(Si-On-Nothing構造)形成後にSiN膜を成膜した模擬試料を試作し、Siメンブレンに印加される歪みをμ-PLを用いて評価した。その結果、200nm-SiN/200nm-Si膜では約1%の歪みが導入できること、<100>方向歪みが<110>方向より大きいことを示した。また、深さ方向に対して均一歪みあるいは不均一歪みかの評価手法として、PL信号強度とSi膜厚依存性から判断する方法を提案した。
(2)SiN/SOI構造を試作し、開口部に発生する歪みをPL評価した。その結果、歪み層が照射光の侵入長より大きい時、バンド間遷移に対応する信号は観測されないこと、歪み緩和により歪み層が照射光の侵入長より小さくなると、バンド間遷移の信号が観測されること、開口部のエッジから±3μmでバンド間遷移の信号が急峻に変化すること、を明らかにした。
(3)SiN/SOI-MOSFETを作製しチャネルの移動度を評価した。その結果、チャネル長が短い程、歪みによる移動度向上は大きく、top側で50%、bottom側で30%の向上を示すことを明らかにした。

  • Research Products

    (12 results)

All 2011 2010 Other

All Journal Article (6 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (5 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Defect Evaluation by Photoluminescence for Uniaxially Strained Si-On-Insulator2011

    • Author(s)
      D.Wang, K.Yamamoto, H.Gao, H.Yang, H.Nakashima
    • Journal Title

      The Electrochemical Society Transactions

      Volume: Vol.34 Pages: 1117-1122

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Measurement of strain and strain relaxation in free-standing Si membranes by convergent beam electron diffraction and finite element method2011

    • Author(s)
      H.Gao, K.Ikeda, S.Hata, H.Nakashima, D.Wang, H.Nakashima
    • Journal Title

      Acta Materialia

      Volume: Vol.59 Pages: 2882-2890

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Microphotoluminescence evaluation of local for freestanding Si membranes with SiN deposition2010

    • Author(s)
      D.Wang, H.Yang, H.Nakashima
    • Journal Title

      Proceeding of The Forum on the Science and Technology of Silicon Materials 2010

      Pages: 411-420

  • [Journal Article] Measurement of Strain in Freestanding Si/Si_xN_y Membrane by Convergent Beam Electron Diffraction and Finite Element Method2010

    • Author(s)
      H.Gao, K.Ikeda, S.Hata, H.Nakashima, D.Wang, H.Nakashima
    • Journal Title

      Jpn.J.Appl.Phys.

      Volume: Vol.49 Pages: 090208-3

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Strain distribution in freestanding Si/Si_xN_y membranes studied by transmission electron microscopy2010

    • Author(s)
      H.Gao, K.Ikeda, S.Hata, H.Nakashima, D.Wang, H.Nakashima
    • Journal Title

      Thin Solid Films

      Volume: Vol.518 Pages: 6787-6791

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Microstructure and strain distribution in freestanding Si membrane strained by Si_xN_y deposition2010

    • Author(s)
      H.Gao, K.Ikeda, S.Hata, H.Nakashima, D.Wang, H.Nakashima
    • Journal Title

      Materials Science and Engineering A

      Volume: Vol.527 Pages: 6633-6637

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Defect Evaluation by Photoluminescence for Uniaxially Strained Si and Strained Si-on-insulator2011

    • Author(s)
      D.Wang, K.Yamamoto, H.Gao, H.Yang, H.Nakashima
    • Organizer
      China Semiconductor Technology International Conference 2011
    • Place of Presentation
      Shanghai, China
    • Year and Date
      2011-03-14
  • [Presentation] Microstructures and defects in freestanding Si membranes in Strained Freestanding Si Membranes2010

    • Author(s)
      H.Gao, K.Ikeda, S.Hata, H.Nakashima, D.Wang, H.Nakashima
    • Organizer
      第52回 日本顕微鏡学会九州支部総会
    • Place of Presentation
      九州大学
    • Year and Date
      2010-12-24
  • [Presentation] Microphotoluminescence evaluation of local for freestanding Si membranes with SiN deposition2010

    • Author(s)
      D.Wang, H.Yang, H.Nakashima
    • Organizer
      The Forum on the Science and Technology of Silicon Materials 2010
    • Place of Presentation
      岡山大学
    • Year and Date
      2010-11-29
  • [Presentation] SiN膜堆積によるSi基板への局所歪み導入と移動度評価手法の構築2010

    • Author(s)
      原田健司、山本圭介、王冬、中島寛
    • Organizer
      2010年応用物理学会九州支部学術講演会
    • Place of Presentation
      九州大学
    • Year and Date
      2010-11-27
  • [Presentation] Microstructure and strain distribution in strained freestandeing Si membrane2010

    • Author(s)
      H.Gao, K.Ikeda, S.Hata, H.Nakashima, D.Wang, H.Nakashima
    • Organizer
      The 17^<th> International Microscopy Congress (IMC17)
    • Place of Presentation
      Brazil
    • Year and Date
      2010-09-22
  • [Remarks]

    • URL

      http://astec.kyushu-u.ac.jp/nakasima/naka_home.htm

URL: 

Published: 2012-07-19  

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