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2010 Fiscal Year Annual Research Report

ペプチド修飾シリカ微粒子を充填したカラムによる貴金属イオンの選択的超高効率回収

Research Project

Project/Area Number 21760685
Research InstitutionThe University of Shiga Prefecture

Principal Investigator

谷本 智史  滋賀県立大学, 工学部, 准教授 (50303350)

Keywordsペプチド / 貴金属イオン / レアメタル回収 / イオン吸着 / カラム充填剤
Research Abstract

本研究ではカラム充填用シリカビーズ表面に機能性部品としてペプチドを固定化し、電気電子産業の廃水中に含まれる貴金属イオンやレアメタルイオンを回収するカラム充填剤を開発することを最終目的とする。ペプチドはその構造によって様々な物質に対して選択的吸着特性を示すことが出来る機能性物質である。本研究で提案するペプチド固定化シリカビーズが実現すれば、循環型社会構築の一助となることは言うまでもない。
22年度はシリカビーズ表面に固定化したペプチドの表面密度の制御方法を開発した。重合の開始点となるアミノ基をシリカビーズ表面に固定化する際に使用するシランカップリング剤の濃度と処理時間を変えることで重合開始点の密度を変化させることに成功した。その結果、表面密度の異なるペプチド固定化シリカビーズが3種類得られた。
また得られたペプチド固定化シリカビーズを簡易カラムに充填し、フロー法による金イオンの捕集・脱着実験を行った。まず、金イオン水溶液から金イオンを捕集し、その後、塩酸を通じて金イオンを脱着した。吸着量は紫外可視分光光度計で評価した。その結果、シリカビーズ表面におけるペプチドのグラフト密度が高いと金イオンの吸着総量が増すが、その後の脱着効率が悪くなってしまうことがわかった。これは、捕集に関わる官能基の密度が高すぎることによって起こった現象であると考えている。以上より、グラフト重合させたペプチドの表面密度が極めて重要なパラメータであることが明らかとなった。

  • Research Products

    (4 results)

All 2011 2010 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (2 results)

  • [Journal Article] Specific gold ion scavenger by means of sol-gel transition of peptide copolymer2011

    • Author(s)
      Satoshi Tanimoto, Tohru Okunishi, Hitoshi Yamaoka, Yoshitsugu Hirokawa
    • Journal Title

      Polymer Journal

      Volume: 43 Pages: 313-316

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Diblock/Triblock Structural Transition and Sol-Gel Transition of Peptide/PEG Diblock Copolymer Having a Terminal Terpyridine Group Induced by Complexation with Metal Ion2010

    • Author(s)
      Satoshi Tanimoto, Yasushi Nakamura, Hitoshi Yamaoka, Yoshitsugu Hirokawa
    • Journal Title

      International Journal of Polymer Science

      Volume: 2010

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] ペプチド修飾シリカ粒子の貴金属イオン捕集カラム充填剤への応用2010

    • Author(s)
      足立達也, 川村英俊, 大倉清幸, 廣川能嗣, 谷本智史
    • Organizer
      第59回高分子討論会
    • Place of Presentation
      北海道大学
    • Year and Date
      2010-09-17
  • [Presentation] 貴金属イオン捕集材としてのペプチド修飾シリカ表面の研究

    • Author(s)
      川村英俊, 足立達也, 廣川能嗣, 谷本智史
    • Organizer
      第59回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜

URL: 

Published: 2012-07-19  

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