2021 Fiscal Year Research-status Report
Development of high-density heat rejection device which realizes ultimately minimum mass flow rate of coolant
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21K03909
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| Research Institution | Muroran Institute of Technology |
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Principal Investigator |
今井 良二 室蘭工業大学, 大学院工学研究科, 教授 (60730223)
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| Project Period (FY) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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| Keywords | 高電場 / 液膜 / 電気毛管現状 / マイクロチャネル |
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| Outline of Annual Research Achievements |
１．マイクロチャネルでの毛細管力および静電気力による薄液膜蒸発の安定化手法の確立
急速な蒸発により欠損した冷媒を補給し、安定な薄液膜蒸発の形成を可能にするマイクロチャネルおよび静電気力の印可方法を文献調査により模索した。チャネル幅（50μm）、長さ(3、5、10mm)、電場印可機構（2種類）、電圧（最大10kV）、冷媒種類（純水、エタノール）、液膜の保持状況に関する観察方法の検討、排熱量を算出する解析ツールを作成した．
２．高電場中液体挙動観察手法の検討
マイクロチャネル高熱流束除熱デバイスの要素試験で必要となる、高電場中の液体挙動の観察技術確立にあたり、透明電極間を用いた高電場印加装置を試作し、高電場下における液膜挙動の観察を行った．
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
マイクロチャネル高熱流束除熱デバイスの設計に必要な解析ツールを作成し、本デバイスの要素試験に必要な高電場中の液膜挙動可視化技術を確立した．
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| Strategy for Future Research Activity |
マイクロチャネル高熱流束除熱デバイス、電場印加機構の試作を行い、電場による除熱特性の計測を行う．
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| Causes of Carryover |
マイクロチャネル、電場印加機構の試作に当たり、電場印加時のマイクロチャネル内液膜の熱流動挙動に関するより詳細な数値解析モデルの構築が必要となった．物品購入前にコストを要さない数値解析を実施したため、次年度使用額が生じた．年度前半に物品購入を行う予定である．
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Research Products
(1 results)
