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2023 Fiscal Year Annual Research Report

Analysis of ohmic metal/semiconductor interfaces by low-temperature SIPM

Research Project

Project/Area Number 21K04135
Research InstitutionUniversity of Fukui

Principal Investigator

塩島 謙次  福井大学, 学術研究院工学系部門, 教授 (70432151)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 橋本 明弘  福井大学, 学術研究院工学系部門, 教授 (10251985) [Withdrawn]
Project Period (FY) 2021-04-01 – 2024-03-31
Keywords電極 / 界面顕微光応答法 / 2次元評価 / ワイドバンドギャップ半導体
Outline of Annual Research Achievements

本研究課題では我々が独自に開発した金属/半導体(M/S)界面の2次元評価法(界面顕微光応答法)をワイドバンドギャップ半導体上に形成した電極の電流輸送機構の解明に適応できることの実証が目的である。従来はショットキーM/S界面の2次元評価を室温で行ってきたが、低障壁で低抵抗なオーミック電極に対して低温での測定が行えるよう装置を改造し、低ノイズで高感度な光電流検出を提案している。
R5年度は最終目標である温度可変界面顕微光応答測定を実施した。薄膜Au/Ni電極に対して前面照射の光学系で室温、313K、323Kの3つの温度で赤、緑、青の3波長のレーザを用いて測定を行い、電極表面の汚れが鮮明に観察されるほどの光電流像を得ることができた。障壁高さ像では温度によらず1.10から1.13 eVのほぼ一定の値が算出され、妥当な値が2次元評価でも得られることを実証した。また、これまでの研究成果が評価され、海外1件、国内1件の招待講演の栄誉を得た。
研究期間全体を通じた成果としては、(1)オーミック特性に近い非常にリーキーなNi/高ドープp-SiC電極において内部光電子放出測定( PR)および、界面顕微光応答測定が有効であることを示した、(2)温度可変測定系の構築として、100Kまで0.1 nA以下の低リーク電流の達成、プリベークと窒素ガスの吹付によるビューポートの曇りの低減により正確で長時間の運転を可能とした、(3)サンプルの裏面を温度可変ステージにマウントし、光を前面から照射するため、電極の薄層化を検討し、厚さ100 nm以下で測定可能な光電流が得られることを実証した、(4)薄層電極に対して170から370Kの温度領域でPRスペクトルを得ることができたことが挙げられる。これらの要素技術の立ち上げに基づき、上記R5年度の最終目標の達成に至ったので、本研究の目的はお概ね達成したと考えられる。

  • Research Products

    (13 results)

All 2024 2023 Other

All Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (8 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Invited: 1 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Two‐Dimensional Characterization of Au/Ni/Thin Heavily‐Mg‐Doped p‐/n‐GaN Structure under Applied Voltage by Scanning Internal Photoemission Microscopy2024

    • Author(s)
      Imabayashi Hiroki、Yoshimura Haruto、Horikiri Fumimasa、Narita Yoshinobu、Fujikura Hajime、Ohta Hiroshi、Mishima Tomoyoshi、Shiojima Kenji
    • Journal Title

      physica status solidi (b)

      Volume: - Pages: -

    • DOI

      10.1002/pssb.202400033

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Photoelectrical characterization of heavily doped p-SiC Schottky contacts2024

    • Author(s)
      Imabayashi Hiroki、Sawazaki Hitose、Yoshimura Haruto、Kato Masashi、Shiojima Kenji
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 63 Pages: 04SP71~04SP71

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ad32e0

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Mapping of ultra-high-pressure annealed n-GaN Schottky contacts using scanning internal photoemission microscopy2023

    • Author(s)
      Imabayashi Hiroki、Shiojima Kenji、Kachi Tetsu
    • Journal Title

      Materials Science in Semiconductor Processing

      Volume: 162 Pages: 107536~107536

    • DOI

      10.1016/j.mssp.2023.107536

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] (Invited) Characterization of Metal/GaN Schottky Contacts - Review from the Early Days2023

    • Author(s)
      Shiojima Kenji
    • Journal Title

      ECS Transactions

      Volume: 112 Pages: 89~107

    • DOI

      10.1149/11201.0089ecst

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 界面顕微光応答法によるGaNショットキー電極界面の2次元評価2024

    • Author(s)
      塩島謙次
    • Organizer
      応用物理学会 半導体の結晶成長と加工および評価に関する産学連携委員会 第4回研究会
    • Invited
  • [Presentation] Ni/n-GaN ショットキー接触のI-V 特性における変位電流の評価2024

    • Author(s)
      今林 弘毅、川西 健太郎、太田 博、三島 友義、塩島 謙次
    • Organizer
      第71回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Photoelectrical Characterization of Heavily-doped p-SiC Schottky Contacts2023

    • Author(s)
      Hiroki Imabayashi, Hitose Sawazaki, Haruto Yoshimura, Masashi Kato, Kenji Shiojima
    • Organizer
      International conference on Solid State Devices and Materials 2023 (SSDM2023)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Two-Dimensional Characterization of Au/Ni/Thin Heavily-Mg-Doped p-/n-GaN Schottky Contacts under Applied Voltage by Scanning Internal Photoemission Microscopy2023

    • Author(s)
      Hiroki Imabayashi, Haruto Yoshimura, Fumimasa Horikiri, Yoshinobu Narita, Hajime Fujikura, Hiroshi Ohta, Tomoyoshi Mishima, and Kenji Shiojima
    • Organizer
      14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 金属/GaNショットキー電極評価の変遷2023

    • Author(s)
      塩島謙次
    • Organizer
      電子情報通信学会電子部品・材料研究会(CPM)研究会
  • [Presentation] 電圧印加界面顕微光応答法によるAu/Ni/薄層高濃度Mgドープp-GaN/n-GaNショットキー接触の二次元評価2023

    • Author(s)
      吉村 遥翔, 今林 弘毅, 堀切 文正, 成田 好伸, 藤倉 序章, 太田 博,三島 友義, 塩島 謙次
    • Organizer
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] 電圧印加界面顕微光応答法によるAu/Ni/薄層高濃度Mgドープp-GaN/n-GaN ショットキー接触の二次元評価2023

    • Author(s)
      吉村 遥翔、今林 弘毅、堀切 文正、成田 好伸、藤倉 序章、太田 博、三島 友義、塩島 謙次
    • Organizer
      電子情報通信学会電子部品・電子デバイス(ED)研究会
  • [Presentation] 電圧印加界面顕微光応答法によるAu/Ni/薄層高濃度Mg ドープp-/n-GaN ショットキー接触の二次元評価2023

    • Author(s)
      今林 弘毅, 吉村 遥翔, 太田 博, 三島 友義, 塩島 謙次
    • Organizer
      先進パワー半導体分科会 第10回講演会
  • [Remarks] 福井大学工学部電気電子情報工学科電気・電子工学講座半導体表面界面 (塩島・今林)研究室のホームページ

    • URL

      http://fuee.u-fukui.ac.jp/~shiojima/integrated.html

URL: 

Published: 2024-12-25  

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