2023 Fiscal Year Annual Research Report
マルチスケール転写構造評価のための入射領域制御を利用した光学応答解析手法の開発
Project/Area Number |
21K14054
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Research Institution | The University of Tokyo |
Principal Investigator |
門屋 祥太郎 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (60880234)
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Project Period (FY) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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Keywords | インプロセス計測 / 微細周期構造 / ディフレクトメトリ |
Outline of Annual Research Achievements |
微細な表面構造によって発現する光学特性や濡れ性などの様々な物理特性は,微細加工・微細計測,バイオなど様々な分野で活用されている.特に,マイクロメートルスケール,サブマイクロメートルスケールという二つの異なるサイズ領域の微細構造を併せ持つマルチスケール構造は,その複雑な形状によってより高度な機能を実現できると期待されている.本研究では,様々な微細加工技術によって作成されるマルチスケール構造(例えば長短パルスレーザ加工によって生成されるLIPPS構造)について,その形状などを光学系速報によってインプロセスに評価する方法の開発を目指している.本年度は以下の項目について研究を行った. μ周期構造の一括計測に関する実験的検証:前年度に提案した,マルチスケール構造における基準となるマイクロスケール構造について非走査で大面積を一括計測可能な傾斜角測定法について,理論的な検証に加えて,実際のマイクロメートルスケール構造サンプルを用いて実験的に計測手法の妥当性を検証した. 本手法は測定対象表面の傾斜角を取得して形状復元を行うディフレクトメトリの一種であるといえるが,測定対象表面全体の反射光角度分布から面内情報を一挙に取得するという点で,レンズ系を用いることで非走査化した新しいディフレクトメトリである.本手法により,測定環境の擾乱に対してよりロバストな計測が実現できるという点で,特徴を有するもので,干渉法などの従来型形状測定からの発展が期待される.
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Research Products
(2 results)