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2022 Fiscal Year Annual Research Report

多結晶Ge薄膜上における金属コンタクトの低温制御

Research Project

Project/Area Number 21K14199
Research InstitutionKyushu University

Principal Investigator

茂藤 健太  九州大学, 総合理工学研究院, 特別研究員(PD) (70896191)

Project Period (FY) 2021-04-01 – 2023-03-31
Keywordsゲルマニウム / 多結晶 / 薄膜 / 金属コンタクト
Outline of Annual Research Achievements

低温合成可能であり、高移動度を有する多結晶Geを電子デバイス応用するためには、金属/多結晶Geのショットキー障壁が欠かせない。しかしながら、金属/Ge界面で生じるフェルミレベルピニング(FLP)により、どのような金属を用いても、高電子障壁(低正孔障壁)を示してしまうため、ショットキー障壁高さの制御が困難であった。前年度は、多結晶GeをZrNを直接スパッタ堆積することでFLPを緩和し、p型Ge上に整流性(低電子障壁)を発現させることに成功した。本年度は、この整流性(低電子障壁)発現メカニズムの解明とショットキー障壁高さの制御に取り組んだ。

ZrN/多結晶Geの界面について、電子顕微鏡法、エネルギー分散型X線分光法、電子回折法を用いて詳細に評価した。この結果、ZrN/多結晶Geに界面において、(1)界面層が存在すること、(2)その界面層は非晶質であり、窒素を含んでいることが分かった。この結果は、単結晶Ge上のZrNコンタクトの結果と一致しており、界面層の窒素に由来するダイポールがFLPを緩和し、整流性(低電子障壁)が発現したことを示している。この窒素を含む非晶質界面層の上に様々な仕事関数の金属を形成したところ、金属の仕事関数を反映した整流特性が得られた。多結晶Ge上においてショットキー障壁高さの広範な制御が可能であることを示す結果であり、多結晶Geの電子デバイス応用を開拓する成果であると言える。

  • Research Products

    (14 results)

All 2023 2022

All Presentation (14 results) (of which Int'l Joint Research: 9 results,  Invited: 2 results)

  • [Presentation] Control of Schottky Barrier Height at Metal/Polycrystalline Ge Interfaces with Fermi Level Pinning Alleviation2023

    • Author(s)
      K. Moto, K. Toko, T. Takayama, T. Imajo, and K. Yamamoto
    • Organizer
      International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostrucures International SiGe Technology and Device Meeting (ICSI-ISTDM 2023)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Polycrystalline Thin-Film Transistor Based on Solid-Phase Crystallized Ge and GeSn2023

    • Author(s)
      K. Moto, K. Yamamoto, and K. Toko
    • Organizer
      13th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Improved Carrier Mobility of Sn-Doped Ge Thin-Films (≦20 nm) by Post-Annealing for Thin-Film Transistor Application2023

    • Author(s)
      T. Koga, T. Nagano, K. Moto, K. Yamamoto, and T. Sadoh
    • Organizer
      THE 30th INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES (AM-FPD23)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 絶縁膜上におけるSn添加Ge薄膜の固相成長とTFT応用2023

    • Author(s)
      古賀 泰志郎、永野 貴弥、茂藤 健太、 山本 圭介、 佐道 泰造
    • Organizer
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
  • [Presentation] 高速薄膜トランジスタに向けたGeSn極薄膜の選択的核生成2023

    • Author(s)
      前田 真太郎、石山 隆光、山本 圭介、 末益 崇、都甲 薫
    • Organizer
      第70回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] First demonstration of photoresponsivity in a polycrystalline Ge-based thin film2022

    • Author(s)
      K. Moto, K. Toko, T. Takayama, T. Imajo, and K. Yamamoto
    • Organizer
      2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2022)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Interface-Modulated Solid-Phase Crystallization of Sn-Doped Ge Ultra-thin Films for Advanced TFT2022

    • Author(s)
      T. Sadoh, T. Nagano, T. Koga, K. Moto, and K. Yamamoto
    • Organizer
      The 29th International Display Workshops (IDW '22)
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Improved Carrier Mobility of Sn-Doped Ge Ultrathin (<50) Films on Insulator by a-Si Capping in Solid-Phase Crystallization2022

    • Author(s)
      T. Nagano, R. Hara, K. Moto, K. Yamamoto, and T. Sadoh
    • Organizer
      2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2022)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Improved Solid-Phase Crystallization of Sn-Doped Ge Thin Films (≦50 nm) on Insulator by a-Si Capping2022

    • Author(s)
      T. Nagano, R. Hara, K. Moto, K. Yamamoto, and T. Sadoh
    • Organizer
      9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-IX)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Fabrication and evaluation of polycrystalline Ge-based thin-film transistors on glass2022

    • Author(s)
      T. Takayama, K. Moto, K. Yamamoto, T. Imajo,K. Toko
    • Organizer
      Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM 2022)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Novel group IV semiconductor materials and devices for beyond Si technology2022

    • Author(s)
      K. Yamamoto, T. Matsuo, D. Wang, K. Moto, K. Toko, and H. Nakashima
    • Organizer
      Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM 2022)
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 多結晶p型Ge上におけるショットキー整流性コンタクトの形成2022

    • Author(s)
      茂藤 健太、都甲 薫、高山 智成、今城 利文、山本 圭介
    • Organizer
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] 金属/多結晶Ge界面におけるフェルミレベルピニングの緩和とショットキー障壁制御2022

    • Author(s)
      高山 智成、茂藤 健太、都甲 薫、王 冬、山本 圭介
    • Organizer
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] 界面変調型固相成長とポストアニールの重畳による Sn添加多結晶Ge極薄膜の高キャリア移動度化2022

    • Author(s)
      古賀 泰志郎、永野 貴弥、茂藤 健太、山本 圭介、佐道 泰造
    • Organizer
      第83回応用物理学会秋季学術講演会

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Published: 2023-12-25  

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