2021 Fiscal Year Research-status Report
Establishment of surface treatment to suppress adhesion of early colonization bacteria and application to prevention of peri-implantitis
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21K17048
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| Research Institution | Tokyo Dental College |
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Principal Investigator |
小田 由香里 東京歯科大学, 歯学部, 助教 (20778518)
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2021-04-01 – 2024-03-31
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| Keywords | streptococci / インプラント周囲炎 / 中性2%NaF / 大気圧プラズマ照射 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
インプラント周囲炎部位において、メタゲノム解析法により網羅的解析を行った結果、歯周炎における初期定着細菌とされているstreptococciが検出されている。そこで、streptococciをターゲットとして、付着を抑制するインプラント材料の表面処理法を見いだすことが、最終的にインプラント周囲炎を惹起する細菌で構成されるバイオフィルム形成の後期定着細菌群の表面付着抑制に繋がる可能性が高いと考え、化学的処理および物理的処理を行なったチタンおよびジルコニア材料表面は、streptococciの付着抑制効果があるのか明らかにすることを目的とした。
現在、化学的処理法である中性2%NaFの塗布がstreptococci (S.sanguinis,S.gordoniiおよびS.oralis)の生菌数を減少させ、チタンおよびジルコニア表面上のstreptococciの付着抑制に有効であることが明らかになっている。また、物理的処理法である大気圧プラズマ照射は、streptococciの菌種の違いによるものの、生菌数を減少させている。特に、S.sanguinisおよびS.gordoniiにおいて、付着抑制に有効である傾向が認められている。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
本研究の第一段階として、2%NaFがS.sanguinis,S.gordonii,S.oralisといったstreptococciの付着抑制にも有効であるかを検討したところ、ATP lumino assayの結果より、チタン及びジルコニアディスク上に2%NaFを塗布した群では、NaF塗布しない群と比較し、生菌数が少ないことが明らかになっている。
第二段階として、大気圧プラズマ照射がstreptococciの付着抑制にも有効であるかを検討したところ、S.gordoniiおよびS.oralisにおいて、ATP lumino assayの結果より、チタン及びジルコニアディスク上に大気圧プラズマを照射した群では、照射しない群と比較し、生菌数が少ない傾向を認めている。
以上より、初期定着細菌群streptococciをターゲットにした付着抑制が可能であると考えられるため、本題における進捗状況はおおむね順調であると考えられる。
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| Strategy for Future Research Activity |
本研究の第二段階として、大気圧プラズマ照射がS.sanguinis,S.gordonii,S.oralisといった他のstreptococciの付着抑制にも有効であるかを検討したところ、ATP lumino assayより、チタン及びジルコニアディスク上に大気圧プラズマ照射を行なった群では、大気圧プラズマ照射しない群と比較し、生菌数が少ないことが明らかになった。しかしながら、大気圧プラズマ照射がチタンジルコニア表面の性状をどの程度改変するのか等の詳細な検討や、どの照射条件でどの程度の抑制効果があるのか等の詳細な条件検討も未だされていないため、この点については2022年の課題とし、臨床応用に直結した条件を模索する。
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