Establishment of surface treatment to suppress adhesion of early colonization bacteria and application to prevention of peri-implantitis

2022 Fiscal Year Research-status Report

• Project/Area Number: 21K17048
• Research Institution: Tokyo Dental College
• Principal Investigator: 小田 由香里 東京歯科大学, 歯学部, 助教 (20778518)
• Project Period (FY): 2021-04-01 – 2024-03-31
• Keywords: streptococci / インプラント周囲炎 / 中性2%NaF / 大気圧プラズマ照射

Outline of Annual Research Achievements

インプラント周囲炎部位において、メタゲノム解析法により網羅的解析を行った結果、歯周炎における初期定着細菌とされているstreptococciが検出されてい る。そこで今回、streptococciをターゲットとして、付着を抑制するインプラント材料の表面処理法を見いだすことが、最終的にインプラント周囲炎を惹起する細菌 で構成されるバイオフィルム形成の後期定着細菌群の表面付着抑制に繋がる可能性が高いと考え、化学的処理および物理的処理を行なったチタンおよびジルコニア材料表面は、streptococciの付着抑制効果があるのか明らかにすることを目的とした。
現在、化学的処理法である中性2%NaFの塗布がstreptococci (S.sanguinis,S.gordoniiおよびS.oralis)の生菌数を減少させ、チタンおよびジルコニア表面上の streptococciの付着抑制に有効であることが明らかになっている。また、物理的処理法である大気圧プラズマ照射は、streptococciの菌種の違いによるものの、 生菌数を減少させている。特に、S.sanguinisおよびS.gordoniiにおいて、付着抑制に有効である傾向が認められており、有効な方法である可能性が高い。

Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

本研究の第一段階として、2%NaFがS.sanguinis,S.gordonii,S.oralisといったstreptococciの付着抑制にも有効であるかを検討したところ、ATP lumino assayの 結果より、チタン及びジルコニアディスク上に2%NaFを塗布した群では、NaF塗布しない群と比較し、生菌数が少ないことが明らかになっている。 第二段階として、大気圧プラズマ照射がstreptococciの付着抑制にも有効であるかを検討したところ、S.gordoniiおよびS.oralisにおいて、ATP lumino assayの 結果より、チタン及びジルコニアディスク上に大気圧プラズマを照射した群では、照射しない群と比較し、生菌数が少ない傾向を認めている。 よって、初期定着細菌群streptococciをターゲットにした付着抑制が可能であると考えられるため、本題における進捗状況はおおむね順調であると考えられ る。

Strategy for Future Research Activity

本研究の第二段階として、大気圧プラズマ照射がS.sanguinis,S.gordonii,S.oralisといった他のstreptococciの付着抑制にも有効であるかを検討したところ、 ATP lumino assayより、チタン及びジルコニアディスク上に大気圧プラズマ照射を行なった群では、大気圧プラズマ照射しない群と比較し、生菌数が少ない傾向を認めたが、大気圧プラズマ照射の詳細な条件検討について探索する。