2023 Fiscal Year Annual Research Report
Establishment of surface treatment to suppress adhesion of early colonization bacteria and application to prevention of peri-implantitis
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21K17048
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| Research Institution | Tokyo Dental College |
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Principal Investigator |
小田 由香里 東京歯科大学, 歯学部, 助教 (20778518)
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2021-04-01 – 2024-03-31
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| Keywords | streptococci / 中性2%NaF / 大気圧プラズマ照射 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
インプラント周囲炎部位において、メタゲノム解析法により網羅的解析を行った結果、歯周炎における初期定着細菌とされているstreptococciが検出されてい る。そこで今回、streptococciをターゲットとして、付着を抑制するインプラント材料の表面処理法を見いだすことが、最終的にインプラント周囲炎を惹起する 細菌 で構成されるバイオフィルム形成の後期定着細菌群の表面付着抑制に繋がる可能性が高いと考え、化学的処理および物理的処理を行なったチタンおよびジ ルコニア材料表面は、streptococciの付着抑制効果があるのか明らかにすることを目的とした。
現在、化学的処理法である中性2%NaFの塗布がstreptococci (S.sanguinis,S.gordoniiおよびS.oralis)の生菌数を減少させ、チタンおよびジルコニア表面上の streptococciの付着抑制に有効であることが明らかになっている。また、物理的処理法である大気圧プラズマ照射を行うことで、 streptococciの生菌数を減少させている。また、付着抑制において、streptococciの菌種により違いはあるが、S.sanguinisおよびS.gordoniiにおいて、付着抑制に有効であった。
以上より、streptococciの付着抑制において、中性2%NaFおよび大気圧プラズマ照射は有効な方法である可能性が示唆された。
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