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2021 Fiscal Year Research-status Report

一様エネルギーを持つ化学的活性負イオンによる正確で上質なナノプロセス方式への転換

Research Project

Project/Area Number 21K18618
Research InstitutionKyoto Institute of Technology

Principal Investigator

比村 治彦  京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 教授 (30311632)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 三瓶 明希夫  京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授 (90379066)
神吉 隆司  海上保安大学校(国際海洋政策研究センター), 国際海洋政策研究センター, 教授 (40524468)
Project Period (FY) 2021-07-09 – 2023-03-31
Keywordsプラズマナノプロセス / 反応性イオン / リモートプラズマ
Outline of Annual Research Achievements

既存の反応性プラズマを用いたプラズマCVD/ALDでは、プラズマ中に含まれる反応性ラジカル、イオン、電子、中性粒子の全粒子種がターゲットと化学的に、一部は物理的にも反応する。また、プラズマ生成室内にはプラズマ生成に必要なエネルギーが投入され続けている。このため、プラズマは原理的に熱平衡状態に緩和しない。したがって、プラズマのエネルギーと数密度には、時間的かつ空間的揺らぎ(揺動)が必ず存在する。揺動が存在しても、その揺動の特性長が、ターゲットの大きさよりも十分に短い場合、既存のプラズマCVD/ALDはプロセスで許容されるものの、原子層スケールの微細加工ではそのプラズマ揺動が相対的に顕在化する。加えて、反応性イオンやラジカルの挙動を正確に制御できていないため、現思想スケールでの均一化すら困難である。
この限界を打ち破るためには、揺動がなく、均一な数密度をもつプラズマを反応性イオンだけで作り出せればよい。このために本研究では高周波でパルス的にパルス的に作り出し、エネルギーの供給を一時的に止める。また、生成されたプラズマから反応性負イオンを作り出し、これらが熱緩和する前に、熱エネルギーの1000倍の加速エネルギーで一様に引き出す。実験では13.56MHzを用いて水素と酸素の負イオン生成を実施した。間欠的なプラズマ生成と、負イオンの生成と引き出しには成功している。水素負イオンの場合、電流量で2uAが得られる。これに電子が全く含まれていない。ところが、この電流量はプラズマソースでのプラズマ密度から期待されるシミュレーション値より少なくとも1桁少なくなっている。データを見る限り、これは13.56MHzでのプラズマの電子温度が磁気フィルター下流領域で解離性電子付着を促進する約1eVにまで十分に下がりきらないことに起因している可能性がある。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

実験装置は常に改良されており、本研究の目的に対する実験を実施できている。磁気フィルターでRFプラズマを閉じ込めながらでは、準励起状態の分子が拡散流出してくる領域に出てくる電子のエネルギーが高温になっていることを明らかにできている。これはDCプラズマ源では見られていない現象で、両者の違いは電場の存在領域の違いにある。この仮説を検証するため、電場の存在領域を変更する方法を着想しており、その実験との比較によって磁気フィルター下流領域の電子温度の低下に対する機構解明に繋げる方針を立てることができている。

Strategy for Future Research Activity

現在までの進捗状況にも書いた通り、この研究のポイントは無電極でナノプロセスに必要とされる反応性負イオンを均一なエネルギーで取り出すことにある。このために必要とされるのは電子温度の低下である。電場とは外部アンテナから供給される外部電場であり、これの侵入距離を短くする実験装置へと改造した。現在すでに電子温度が比較的下がっているデータを得ており、これを使って反応性負イオン電流量の大量取り出しに取り掛かっている。

Causes of Carryover

13.56MHzを用いた負イオン生成実験での電流取り出し量は2uAであり、この値は予測値の1/10であった。この原因に電子温度の値が期待していた値が約1-2eVであることに対して実測値は4-6eVと大幅に高い値になっていることにあると考えた。そこで、この13.56MHzを用いるソースから860MHzマイクロ波を用いるソースへと設計変更に入った。これにより電場侵入長が数cmに留まり、電子温度の低下が期待される。この設計変更は終了しており、図面も完成している。この製作費に次年度使用額を充当する。

  • Research Products

    (9 results)

All 2022 2021 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 3 results,  Invited: 1 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Journal Article] Three-dimensional reconstruction of large non-uniform surface wave plasma using multi-lens array attached to a single viewing port2022

    • Author(s)
      Ninomiya T.、Sanpei A.、Niimoto M.、Inagaki S.、Himura H.
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 61 Pages: SI1009~SI1009

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac647f

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Simulations of novel compact separator for extracting specific reactive ions from large plasma source2022

    • Author(s)
      Kanki Takashi、Himura Haruhiko
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 61 Pages: SI1004~SI1004

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac5a98

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] What's two-fluid plasma?2021

    • Author(s)
      Haruhiko Himura
    • Organizer
      京大ユニットセミナー
    • Invited
  • [Presentation] Simulations of novel compact separator for extracting specific reactive ions from large plasma source2021

    • Author(s)
      T. Kanki, H. Himura
    • Organizer
      Dry Process Symposium
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] First result of extracting not only negative but also positive ion beams from RF source for investigating O- and H- applied to novel nano scale processing2021

    • Author(s)
      C. Katsuki, Y. Fujimoto, H. Himura, A. Sanpei, T. Kanki, K. Tsumori, H. Nakano
    • Organizer
      Dry Process Symposium
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Dependences of magnetic filter attached to RF source on producing negative ions for exploring novel nanoscale processing2021

    • Author(s)
      W. Okauchi, T. Tanaka, H. Himura, A. Sanpei, and K. Tsumori
    • Organizer
      Dry Process Symposium
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 新型ナノプロセス検証装置における負イオン密度測定2021

    • Author(s)
      田中達也、比村治彦、三瓶明希夫、岡内航、藤本佑弥、香月悠良
    • Organizer
      プラズマ・核融合学会
  • [Remarks] 京都工芸繊維大学プラズマ基礎工学研究室

    • URL

      http://nuclear.es.kit.ac.jp/

  • [Patent(Industrial Property Rights)] プラズマ処理装置2021

    • Inventor(s)
      守屋剛、比村治彦
    • Industrial Property Rights Holder
      守屋剛、比村治彦
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      110139592
    • Overseas

URL: 

Published: 2022-12-28  

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