2012 Fiscal Year Annual Research Report
生体高分子とＭＥＭＳ加工の融合によるナノパターン自己創製技術
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22246031
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
初澤 毅 東京工業大学, 精密工学研究所, 教授 (70272721)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
柳田 保子 東京工業大学, 精密工学研究所, 准教授 (10282849)
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| Project Period (FY) |
2010-04-01 – 2015-03-31
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| Keywords | マイクロ・ナノメカトロニクス / バイオメカトロニクス / ナノワイヤ / DNA |
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| Research Abstract |
本研究の目的は，フォトリソグラフィーに代わるナノパターン自己創生技術として，MEMSナノドットリソグラフィー加工技術と遺伝情報物質であるDNAを用いたナノワイヤ作製技術を開発することである．本年度の研究実績は以下のとおりである．１．昨年度までに行ったAFMリソグラフィーによるドット形成の成果を踏まえ，DNA末端の固定化とその自動配線機能について検証を進めた．具体的にはAFMリソグラフィーでシリコン基板上に数10nmの直径を持つナノドットを2次元的に周期的に配列し，この間にDNAを架橋するための条件を求めた．空気中の水蒸気を用いて安定的にナノドットを形成するため，探針振動やタッピングモードなどを比較検討の結果，タッピングモードでのナノドットの直径が圧倒的に小さく，本手法でのナノドット形成に技術的優位性が認められた．また，重力と乾燥剤を用いた液滴乾燥法により，液滴界面での直線状整列を行うことができた．これらを総合して，250nmピッチのナノパターン間にDNAを配列させることに成功した．２．DNAのめっき技術について昨年度に続いて実験的に検証した．まずナノドット間に固定したDNAに白金化合物であるシスプラチンを結合させ，これを触媒として銀鏡反応によりめっきを行い，銀の付着を確認した．ただし白金の周辺のみの点状めっきとなっており，一様なめっきを行うためには，更なる条件の検討が必要である．３．DNA固定のため，AFMの駆動・観察ソフトウェアの更新を行い，ナノドットの描画性能および描画時間が向上した．また，1滴で分析可能な分光光度計を導入し，精製したDNAの濃度等の分析データが，ごく微量の試料で得られるようになった．
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
DNAを固定するナノドット形成，メッキ技術，整列技術については順調に進んでおり，国際会議での発表を行っている．DNAの自己整合機能の応用については未着手であるが，次年度以降に実験を開始する．
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| Strategy for Future Research Activity |
特に問題はないので，今後とも鋭意研究を進める．
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