2011 Fiscal Year Annual Research Report
超微細加工技術にも適応する抽象LSIモデルの構築と高位・物理統合化LSI合成技術
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22300019
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| Research Institution | Waseda University |
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Principal Investigator |
戸川 望 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (30298161)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
木村 晋二 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (20183303)
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| Keywords | 高位合成 / 物理合成 / 微細加工技術 / LSI抽象モデル / 統合化合成技術 |
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| Research Abstract |
平成23年度には,平成22年度において構築されたLSI抽象モデルに基づき,研究項目(IV)低エネルギー統合化LSI 自動合成技術の構築・検証を行った.以下の手順で研究を進めた.
(IV-1)電源電圧に着目した低エネルギー統合化LSI 自動合成フローの構築・検証:
平成22年度の研究項目(I)および(II)により構築されたシステムLSI抽象モデルを前提に,低エネルギー化を目指した統合化LSI自動合成フローを構築・検証した.仮想物理合成にて実物理制約を緩和し高位合成の面から見た理想的な物理合成を得,これと実物理合成との「距離」を小さくすることを基本とするものを考える.矩離の概念は,同一の電源電圧を単位とする.そして統合化LSI自動合成プローを計算機上に実装,実大規模の応用プログラムに適用することで評価した.
(IV-2)クロック配分に着目した低エネルギー統合化LSI 自動合成フローの構築・検証:
平成22年度の研究項目(I)および(II)により構築されたシステムLSI抽象モデルを前提に,低エネルギー化を目指した統合化LSI自動合成フローを構築・検誕する.(IV-1)と同様に,仮想物理合成にて実物理制約を緩和し高位合戒の面から見た理想的な物理合成を得,これと実物理合成との「距離」を小さくすることを基本とするものを考える.距離の概念は,同一のクロックドライバから供給されるものを単位とする.(IV-1)と合わせ,統合化LSI自動合成フローを計算機上に実装,実大規模の応用プログラムに適用することで評価した.
上記(IV-1)および(IV-2)の技術を導入することにより,従来技術に比較して20%～30%を越える低エネルギー化LSI自動合成を達成したことを確認した.平成24年度には,上記に加えて「信頼性」の観点から統合化LSI自動合成フローを確立する予定である.
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
平成23年度の研究によりシステムLSI抽象モデルの構築ならびに検証,統合化LSI自動合成フローの基本設計が完了し,また平成24年度にはこれらをシステムLSIの抵エネルギー化に適用し,実際に従来技術に比較して30%を越える低エネルギー化を達成した.これらは本研究計画がおおむね順調に進展していることを表している.
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| Strategy for Future Research Activity |
前述したようにこれまでの研究はおおむね順調に進展しており今後の研究計画を変更する必要はないと考える.これまでの研究成果を踏まえ,平成24年度には「信頼性」の観点から統合化LSI自動合成フローを確立する予定である.
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