2012 Fiscal Year Annual Research Report
超微細加工技術にも適応する抽象ＬＳＩモデルの構築と高位・物理統合化ＬＳＩ合成技術
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22300019
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| Research Institution | Waseda University |
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Principal Investigator |
戸川 望 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (30298161)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
木村 晋二 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (20183303)
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| Project Period (FY) |
2010-04-01 – 2013-03-31
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| Keywords | 高位合成 / 物理合成 / 微細加工技術 / LSI抽象モデル / 統合化合成技術 |
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| Research Abstract |
本研究では超微細加工技術にも適応すべく，レジスタ-制御回路-機能モジュール間に『弱結合』と『強結合』なる概念を提案し，高位レベルで配線遅延制御を可能とするシステムLSI 抽象モデルを構築すると同時に，実設計を通して妥当性を検証する．平成23年度までに構築されたLSI抽象モデルに基づき，平成24年度には研究項目 (V) 高信頼統合化LSI自動合成技術の構築・検証を行った．以下の手順で研究を進めた．
(V-1) 二重化に基づく高信頼統合化LSI自動合成技術の構築・検証: 平成22年度の研究項目(I)および(II)により構築されたシステムLSI抽象モデルを前提に，データ処理の二重化を目指した統合化LSI自動合成フローを構築・検証した．弱結合要素に区画の概念を導入し，区画の空き領域を有効に活用することにより，オーバヘッドを極小に押えた上で，データ処理の二重化を実現すると同時に，実応用プログラムによって評価した．
(V-2) 部分二重化に基づく高信頼統合化LSI自動合成技術の構築・検証: 前記(V-1)におって実現された二重化に基づく高信頼統合化LSI自動合成技術を発展・拡張し，システムの「信頼性」を最大化すべくデータ処理を部分二重化する技術を研究開発した．
上記(V-1)および(V-2)の技術を構築・検証したことによって，ハードウェアオーバヘッドを極小に抑えながら二重化による高信頼LSI設計が可能となり，ディペンダブルなLSI設計の実現に寄与した．
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| Current Status of Research Progress |
Reason
24年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
24年度が最終年度であるため、記入しない。
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