2010 Fiscal Year Annual Research Report
高出力極端紫外(EUV)光による物質アブレーションとその解明
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22340172
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
西村 博明 大阪大学, レーザーエネルギー学研究センター, 教授 (60135754)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
藤岡 慎介 大阪大学, レーザーエネルギー学研究センター, 助教 (40372635)
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| Keywords | 極紫外(EUV)光源 / EUVアブレーション / WDM物理 / レーザープラズマ光源 |
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| Research Abstract |
レーザー駆動極端紫外線(以下、EUVと記載)を光源とし、これによって加熱された物質の加熱からアブレーションに至る実験データベースを構築するとともに、関連するエネルギー輸送過程や物性状態、流体運動など関連物理を解明する。また、これらの成果を活かして、従来のパルスレーザーアブレーション(PLD)法に代わり、一様加熱された結果放出されるアブレーションプルームによる材料合成等、EUVアブレーション応用の新しい可能性を探ることを目的として開始した。
EUV照射を受けた材料の温度は低く(～1eV)また密度も低い(～10-2g/cm3)のでアブレートの結果放出された粒子から情報(発光やフラックス、電流など)を得るため、本年度はまず連続出射型のEUV光源を開発した。光源材料としてキセノンを用い、これを冷却したドラム上に固化した層をつくり、ドラムを回転させて繰り返しレーザーパルスを照射した。放射されたEUV光はトロイダル鏡で試料上に集光する方式とした。レーザーからEUV光への変換効率を含め、総合的なエネルギー伝達効率は約1%と見積もられている。EUV連続放射、放射スペクトル、伝送、集光状態、デブリ析出効果などの諸特性を確認した。このほか、高効率、低デブリEUV放射を目指した2波長ダブルパルス照射に関して、プレパルスによる微小ターゲットの膨張、密度プロファイル計測、炭酸ガスレーザーによるEUV発生も実施できるようにレーザー調整を実施した。
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